Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019031243) PARTICULES ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES, DISPERSION DE PARTICULES ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PARTICULES ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/031243 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/027879
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 25.07.2018
CIB :
C01G 41/00 (2006.01) ,C08K 3/24 (2006.01) ,C08L 101/12 (2006.01) ,C09K 3/00 (2006.01) ,G02B 5/12 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
G
COMPOSÉS CONTENANT DES MÉTAUX NON COUVERTS PAR LES SOUS-CLASSES C01D OU C01F104
41
Composés du tungstène
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
3
Emploi d'ingrédients inorganiques
18
Composés contenant de l'oxygène, p.ex. métaux-carbonyles
24
Acides; Leurs sels
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
101
Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
12
caractérisées par des propriétés physiques, p.ex. anisotropie, viscosité ou conductivité électrique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
12
Réflecteurs reflex
Déposants :
住友金属鉱山株式会社 SUMITOMO METAL MINING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都港区新橋5丁目11番3号 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716, JP
Inventeurs :
岡田 美香 OKADA, Mika; JP
小野 勝史 ONO, Katsushi; JP
吉尾 里司 YOSHIO, Satoshi; JP
足立 健治 ADACHI, Kenji; JP
町田 佳輔 MACHIDA, Keisuke; JP
Mandataire :
伊東 忠重 ITOH, Tadashige; JP
伊東 忠彦 ITOH, Tadahiko; JP
Données relatives à la priorité :
2017-15481209.08.2017JP
Titre (EN) ELECTROMAGNETIC-WAVE-ABSORBING PARTICLES, ELECTROMAGNETIC-WAVE-ABSORBING PARTICLE DISPERSION, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROMAGNETIC-WAVE-ABSORBING PARTICLES
(FR) PARTICULES ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES, DISPERSION DE PARTICULES ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PARTICULES ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES
(JA) 電磁波吸収粒子、電磁波吸収粒子分散液、電磁波吸収粒子の製造方法
Abrégé :
(EN) Provided are electromagnetic-wave-absorbing particles that comprise oxygen-deficient hexagonal tungsten bronze, the tungsten bronze being represented by the general formula MxWO3y (where the element M includes one or more chosen from a group consisting of at least K, Rb, and Cs, 0.15 ≤ x ≤ 0.33, and 0 < y ≤ 0.46), and the oxygen vacancy concentration Nv being in the range 4.0 × 1014/cm-3 to 8.0 × 1021/cm-3.
(FR) La présente invention concerne des particules absorbant les ondes électromagnétiques qui comprennent du bronze de tungstène hexagonal à carence en oxygène, le bronze de tungstène étant représenté par la formule générale MxWO3 - y (où l’élément M comprend l’un ou plusieurs choisis parmi un groupe constitué d’au moins K, Rb, et Cs, 0,15 ≤ x ≤ 0,33, et 0 < y ≤ 0,46), et la concentration en vide d’oxygène Nv étant située dans la plage de 4,0 x 1014/cm- 3 à 8,0 x 1021/cm- 3.
(JA) 酸素欠損を有する六方晶のタングステンブロンズを含み、 前記タングステンブロンズは、一般式:MWO3-y(ただし、元素Mは少なくともK、Rb、Csから選択された1種類以上を含み、0.15≦x≦0.33、0<y≦0.46)で表され、 酸素空孔濃度Nが4.0×1014cm-3以上8.0×1021cm-3以下である電磁波吸収粒子を提供する。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)