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1. (WO2019031242) DISPERSION DE PARTICULES ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES ET SUBSTRAT STRATIFIÉ TRANSPARENT ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES
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N° de publication : WO/2019/031242 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/027872
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 25.07.2018
CIB :
C01G 41/00 (2006.01) ,C08K 3/24 (2006.01) ,C08L 101/12 (2006.01) ,C09K 3/00 (2006.01) ,G02B 5/22 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
G
COMPOSÉS CONTENANT DES MÉTAUX NON COUVERTS PAR LES SOUS-CLASSES C01D OU C01F104
41
Composés du tungstène
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
3
Emploi d'ingrédients inorganiques
18
Composés contenant de l'oxygène, p.ex. métaux-carbonyles
24
Acides; Leurs sels
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
101
Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
12
caractérisées par des propriétés physiques, p.ex. anisotropie, viscosité ou conductivité électrique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
20
Filtres
22
Filtres absorbants
Déposants :
住友金属鉱山株式会社 SUMITOMO METAL MINING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都港区新橋5丁目11番3号 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716, JP
Inventeurs :
岡田 美香 OKADA, Mika; JP
小野 勝史 ONO, Katsushi; JP
吉尾 里司 YOSHIO, Satoshi; JP
足立 健治 ADACHI, Kenji; JP
町田 佳輔 MACHIDA, Keisuke; JP
Mandataire :
伊東 忠重 ITOH, Tadashige; JP
伊東 忠彦 ITOH, Tadahiko; JP
Données relatives à la priorité :
2017-15481209.08.2017JP
Titre (EN) ELECTROMAGNETIC WAVE-ABSORBING PARTICLE DISPERSION AND ELECTROMAGNETIC WAVE-ABSORBING TRANSPARENT LAMINATED SUBSTRATE
(FR) DISPERSION DE PARTICULES ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES ET SUBSTRAT STRATIFIÉ TRANSPARENT ABSORBANT LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES
(JA) 電磁波吸収粒子分散体、電磁波吸収合わせ透明基材
Abrégé :
(EN) Provided is an electromagnetic wave-absorbing particle dispersion that is characterized by: containing at least electromagnetic wave-absorbing particles and a thermoplastic resin; the electromagnetic wave-absorbing particles containing a hexagonal tungsten bronze having an oxygen deficiency, the tungsten bronze being represented by general formula MxWO3-y (here, the element M includes at least one element selected from among K, Rb and Cs, 0.15 ≤ x ≤ 0.33, and 0 < y ≤ 0.46); and the oxygen vacancy concentration NV in the electromagnetic wave-absorbing particles being 4.3×1014-8.0×1021 cm-3.
(FR) L'invention concerne une dispersion de particules absorbant les ondes électromagnétiques qui est caractérisée en ce que : elle contient au moins des particules absorbant les ondes électromagnétiques et une résine thermoplastique ; les particules absorbant les ondes électromagnétiques contiennent un bronze de tungstène hexagonal présentant une déficience en oxygène, le bronze de tungstène étant représenté par la formule générale MxWO3-y (dans la formule, l'élément M comprend au moins un élément choisi parmi K, Rb et Cs, 0,15 ≤ x ≤ 0,33 et 0 < y ≤ 0,46) ; et la concentration en lacunes d'oxygène NV dans les particules absorbant les ondes électromagnétiques étant de 4,3×1014-8,0×1021 cm-3.
(JA) 少なくとも電磁波吸収粒子と熱可塑性樹脂とを含み、 前記電磁波吸収粒子は酸素欠損を有する六方晶のタングステンブロンズを含み、 前記タングステンブロンズは、一般式:MWO3-y(ただし、元素Mは少なくともK、Rb、Csから選択された1種類以上を含み、0.15≦x≦0.33、0<y≦0.46)で表され、 前記電磁波吸収粒子中の酸素空孔濃度Nが4.3×1014cm-3以上8.0×1021cm-3以下であることを特徴とする電磁波吸収粒子分散体を提供する。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)