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1. (WO2019031093) ÉLÉMENT DE BLOCAGE DE PARTICULES CHARGÉES, APPAREIL D'EXPOSITION COMPRENANT UN TEL ÉLÉMENT, ET PROCÉDÉ D'UTILISATION D'UN TEL APPAREIL D'EXPOSITION
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N° de publication : WO/2019/031093 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/024475
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 21.06.2018
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
305
pour couler, fondre, évaporer ou décaper
Déposants :
MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. [NL/NL]; Computerlaan 15 2628 XK DELFT, NL
Inventeurs :
VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent; NL
WALVOORT, Derk Ferdinand; NL
Mandataire :
KURATA, Masatoshi; c/o SUZUYE & SUZUYE, 11th Floor, Celestine Shiba Mitsui Bldg., 3-23-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo 1050014, JP
NOGAWA, Nobuhisa; c/o SUZUYE & SUZUYE, 11th Floor, Celestine Shiba Mitsui Bldg., 3-23-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo 1050014, JP
KOHNO, Naoki; c/o SUZUYE & SUZUYE, 11th Floor, Celestine Shiba Mitsui Bldg., 3-23-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo 1050014, JP
INOUE, Tadashi; c/o SUZUYE & SUZUYE, 11th Floor, Celestine Shiba Mitsui Bldg., 3-23-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo 1050014, JP
Données relatives à la priorité :
62/542,31008.08.2017US
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BLOCKING ELEMENT, EXPOSURE APPARATUS COMPRISING SUCH AN ELEMENT, AND METHOD FOR USING SUCH AN EXPOSURE APPARATUS
(FR) ÉLÉMENT DE BLOCAGE DE PARTICULES CHARGÉES, APPAREIL D'EXPOSITION COMPRENANT UN TEL ÉLÉMENT, ET PROCÉDÉ D'UTILISATION D'UN TEL APPAREIL D'EXPOSITION
Abrégé :
(EN) The invention relates to an exposure apparatus and a method for projecting a charged particle beam onto a target. The exposure apparatus comprises a charged particle optical arrangement comprising a charged particle source for generating a charged particle beam and a charged particle blocking element and/or a current limiting element for blocking at least a part of a charged particle beam from a charged particle source. The charged particle blocking element and the current limiting element comprise a substantially flat substrate provided with an absorbing layer comprising Boron, Carbon or Beryllium. The substrate further preferably comprises one or more apertures for transmitting charged particles. The absorbing layer is arranged spaced apart from the at least one aperture.
(FR) L'invention concerne un appareil d'exposition et un procédé de projection d'un faisceau de particules chargées sur une cible. L'appareil d'exposition comprend un agencement optique à particules chargées comprenant une source de particules chargées pour générer un faisceau de particules chargées et un élément de blocage de particules chargées et/ou un élément de limitation de courant pour bloquer au moins une partie d'un faisceau de particules chargées à partir d'une source de particules chargées. L'élément de blocage de particules chargées et l'élément de limitation de courant comprennent un substrat sensiblement plat comprenant une couche absorbante comprenant du bore, du carbone ou du béryllium. Le substrat comprend en outre de préférence une ou plusieurs ouvertures pour transmettre des particules chargées. La couche absorbante est disposée à distance de l'au moins une ouverture.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)