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1. (WO2019029601) ÉQUIPEMENT D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
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N° de publication : WO/2019/029601 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/099543
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 09.08.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
上海微电子装备(集团)股份有限公司 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 中国上海市 张江高科技园区张东路1525号 1525 Zhangdong Road Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN
Inventeurs :
钱俊 QIAN, Jun; CN
翟思洪 ZHAI, Sihong; CN
Mandataire :
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; 中国上海市 黄浦区复兴中路1号申能国际大厦606-607室 Units 606-607, Shenergy International Building 1 Middle Fuxing Road, Huangpu District Shanghai 200021, CN
Données relatives à la priorité :
201710682101.510.08.2017CN
Titre (EN) EXPOSURE EQUIPMENT AND EXPOSURE METHOD
(FR) ÉQUIPEMENT D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(ZH) 曝光设备和曝光方法
Abrégé :
(EN) Exposure equipment and an exposure method, the exposure equipment comprising a control system, an optical source system, and a plurality of illumination systems and projection objective lenses (30). The optical source system is used to emit multiple first illuminating incident beams to the plurality of illumination systems, each illumination system comprises a variable attenuator (20) and a branch energy detector (51) used to measure the illuminance of the second illuminating beam generated by the corresponding illumination system and to feed back the illuminance value to the control system wherein the control system, via control of the variable attenuator of each illumination system, adjusts the illuminance of each second illumination beam. The exposure equipment and exposure method can boost exposure performance, with accurate and rapid energy adjustment, achieving precise control and boosting accuracy of exposures.
(FR) La présente invention concerne un équipement d'exposition et un procédé d'exposition, l'équipement d'exposition comprenant un système de commande, un système de source optique et une pluralité de systèmes d'éclairage et d'objectifs de projection (30). Le système de source optique est utilisé pour émettre de multiples premiers faisceaux incidents éclairants vers la pluralité de systèmes d'éclairage, chaque système d'éclairage comprenant un atténuateur variable (20) et un détecteur d'énergie sur branche (51) utilisé pour mesurer l'éclairement du second faisceau d'éclairage généré par le système d'éclairage correspondant et pour renvoyer la valeur d'éclairement au système de commande, système de commande qui règle l'éclairement de chaque second faisceau d'éclairage par l'intermédiaire de la commande de l'atténuateur variable de chaque système d'éclairage. L'équipement d'exposition et le procédé d'exposition peuvent augmenter les performances d'exposition avec un ajustement d'énergie précis et rapide, ce qui permet l'obtention d'une commande précise et l'augmentation de la précision des expositions.
(ZH) 一种曝光设备和曝光方法,曝光设备包括控制系统、光源系统、多套照明系统及多套投影物镜(30),光源系统用于发出多个第一照明光束入射至多套照明系统,每套照明系统均包括可变衰减器(20)和支路能量探测器(51),每套照明系统的支路能量探测器(51)用于探测对应的照明系统中产生的一第二照明光束的照度并反馈给控制系统,控制系统通过控制各照明系统的可变衰减器(20)调节各第二照明光束的照度。曝光设备和曝光方法可提高曝光性能,对能量调整精度高并能快速调整,实现精确控制,提高曝光精度。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)