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1. (WO2019029291) SYSTÈME DE GRAVURE PAR FAISCEAU D'IONS
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N° de publication : WO/2019/029291 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/093270
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 28.06.2018
CIB :
H01J 37/30 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
Déposants :
江苏鲁汶仪器有限公司 JIANGSU LEUVEN INSTRUMMENTS CO. LTD [CN/CN]; 中国江苏省徐州市 邳州经济开发区辽河西路8号 Liaohe West Road 8, Pizhou Economic Development Zone Xuzhou, Jiangsu 221300, CN
Inventeurs :
李娜 LI, Na; CN
胡冬冬 HU, Dongdong; CN
许开东 XU, Kaidong; CN
Mandataire :
北京得信知识产权代理有限公司 BEIJING TRUSTED INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY LTD; 中国北京市 海淀区羊坊店路18号光耀东方广场S座1063室 Room 1063, Building S, Guangyaodongfang Plaza No.18 Yangfangdian Road, Haidian District Beijing 100038, CN
Données relatives à la priorité :
201710680517.310.08.2017CN
Titre (EN) ION BEAM ETCHING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE GRAVURE PAR FAISCEAU D'IONS
(ZH) 一种离子束刻蚀系统
Abrégé :
(EN) Disclosed in the present invention is an ion beam etching system, comprising an etching cavity and an etching electrode, and further comprising an electrode displacement apparatus used for enabling the electrode to change a working position in the etching cavity. The electrode displacement apparatus comprises a dynamic sealing mechanism, a dynamic electrode balance counterweight mechanism, an electrode displacement transmission mechanism, and an electrode displacement driving mechanism. The etching cavity comprises a cavity and a cavity cover connected with the cavity. The cavity is of an irregular shape. The present invention can implement multi-angle etching of a wafer. In addition, by virtue of special design of the cavity shape of the etching cavity, the system can save floor space, can be conveniently connected to other peripheral devices, and can greatly improve the efficiency of an etching work.
(FR) La présente invention concerne un système de gravure par faisceau d'ions, comprenant une cavité de gravure et une électrode de gravure, et comprenant en outre un appareil de déplacement d'électrode utilisé pour permettre à l'électrode de changer une position de travail dans la cavité de gravure. L'appareil de déplacement d'électrode comprend un mécanisme d'étanchéité dynamique, un mécanisme de contrepoids d'équilibrage d'électrode dynamique, un mécanisme de transmission de déplacement d'électrode et un mécanisme d'entraînement de déplacement d'électrode. La cavité de gravure comprend une cavité et un couvercle de cavité relié à la cavité. La cavité est de forme irrégulière. La présente invention peut mettre en œuvre une gravure à angles multiples d'une tranche. De plus, grâce à la conception spéciale de la forme de cavité de la cavité de gravure, le système peut économiser de l'espace de chambre, peut être commodément connecté à d'autres dispositifs périphériques, et peut améliorer considérablement l'efficacité d'un travail de gravure.
(ZH) 本发明公开一种离子束刻蚀系统,包括刻蚀腔体和刻蚀电极,还包括电极变位装置,用于使所述电极在所述刻蚀腔体内变化工作位置,所述电极变位装置包括动密封机构、电极动平衡配重机构、电极变位传动机构、以及电极变位驱动机构,所述刻蚀腔体包括腔室以及与所述腔室相连接的腔盖,所述腔室呈不规则形状。本发明的优点在于,可以实现对晶片的多角度刻蚀。另外,通过对刻蚀腔体的腔室形状进行特殊设计,能够节省占地空间,方便与其他外界设备连接,大幅度提高刻蚀工作效率。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)