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1. (WO2019028324) TAMPON À POLIR DOTÉ D’UNE FENÊTRE ET SES PROCÉDÉS DE FABRICATION
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N° de publication : WO/2019/028324 N° de la demande internationale : PCT/US2018/045122
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 03.08.2018
CIB :
B24B 37/013 (2012.01) ,B24B 37/20 (2012.01) ,B24B 37/24 (2012.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
B
MACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37
Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
005
Moyens de commande pour machines ou dispositifs de rodage
013
Dispositifs ou moyens pour détecter la fin de l'opération de rodage
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
B
MACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37
Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
11
Outils de rodage
20
Tampons de rodage pour travailler les surfaces planes
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
B
MACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37
Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
11
Outils de rodage
20
Tampons de rodage pour travailler les surfaces planes
24
caractérisés par la composition ou les propriétés des matériaux du tampon
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
FU, Boyi; US
GANAPATHIAPPAN, Sivapackia; US
REDFIELD, Daniel; US
BAJAJ, Rajeev; US
CHOCKALINGAM, Ashwin; US
BENVEGNU, Dominic J.; US
CORNEJO, Mario Dagio; US
YAMAMURA, Mayu; US
PATIBANDLA, Nag B.; US
VORA, Ankit; US
Mandataire :
PATTERSON, B. Todd; US
STEVENS, Joseph J.; US
Données relatives à la priorité :
62/541,49704.08.2017US
62/562,23722.09.2017US
Titre (EN) POLISHING PAD WITH WINDOW AND MANUFACTURING METHODS THEREOF
(FR) TAMPON À POLIR DOTÉ D’UNE FENÊTRE ET SES PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abrégé :
(EN) Embodiments of the present disclosure provide for polishing pads that include at least one endpoint detection (EPD) window disposed through the polishing pad material, and methods of forming thereof. In one embodiment a method of forming a polishing pad includes forming a first layer of the polishing pad by dispensing a first precursor composition and a window precursor composition, the first layer comprising at least portions of each of a first polishing pad element and a window feature, and partially curing the dispensed first precursor composition and the dispensed window precursor composition disposed within the first layer.
(FR) La présente invention concerne, selon certains modes de réalisation, des tampons à polir qui comprennent au moins une fenêtre de détection de point d'extrémité (EPD) disposée dans le matériau de tampon à polir, et leurs procédés de formation. Selon un mode de réalisation, un procédé de formation d'un tampon à polir consiste à former une première couche du tampon à polir par distribution d'une première composition de précurseur et d'une composition de précurseur de fenêtre, la première couche comprenant au moins des parties d'un premier organe de tampon à polir et d'un élément fenêtre, et à durcir partiellement la première composition de précurseur distribuée et la composition de précurseur de fenêtre distribuée disposées dans la première couche.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)