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1. (WO2019028082) APPAREIL LASER ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE FILMS MINCES
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N° de publication : WO/2019/028082 N° de la demande internationale : PCT/US2018/044705
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 31.07.2018
CIB :
C23C 14/58 (2006.01) ,B23K 26/082 (2014.01) ,C23C 16/56 (2006.01) ,B23K 26/352 (2014.01) ,B23K 26/08 (2014.01) ,H01S 3/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
58
Post-traitement
[IPC code unknown for B23K 26/082]
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
56
Post-traitement
[IPC code unknown for B23K 26/352]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23
MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
K
BRASAGE OU DÉBRASAGE; SOUDAGE; REVÊTEMENT OU PLACAGE PAR BRASAGE OU SOUDAGE; DÉCOUPAGE PAR CHAUFFAGE LOCALISÉ, p.ex. DÉCOUPAGE AU CHALUMEAU; TRAVAIL PAR RAYON LASER
26
Travail par rayon laser, p.ex. soudage, découpage, perçage
08
Dispositifs comportant un mouvement relatif entre le faisceau laser et la pièce
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
10
Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
Déposants :
IPG PHOTONICS CORPORATION [US/US]; 50 Old Webster Road Oxford, MA 01540, US
Inventeurs :
LIMANOV, Alexander; US
VON DADELSZEN, Michael; US
SCHOENLY, Joshua; US
LEONARDO, Manuel; US
Mandataire :
KATESHOV, Yuri; US
Données relatives à la priorité :
62/539,18331.07.2017US
62/549,25423.08.2017US
62/712,79631.07.2018US
Titre (EN) LASER APPARATUS AND METHOD OF PROCESSING THIN FILMS
(FR) APPAREIL LASER ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE FILMS MINCES
Abrégé :
(EN) A method of fiber laser processing of thin film deposited on a substrate includes providing a laser beam from at least one fiber laser which is guided through a beam-shaping unit onto the thin film. The beam-shaping optics is configured to shape the laser beam into a line beam which irradiates a first irradiated thin film area Ab on a surface of the thin film, with the irradiated thin film area Ab being a fraction of the thin film area Af. By continuously displacing the beam shaping optics and the film relative to one another in a first direction at a distance dy between sequential irradiations, a sequence of uniform irradiated thin film areas Ab are formed on the film surface defining thus a first elongated column. There after the beam shaped optics and film are displaced relative to one another at a distance dx in a second direction transverse to the first direction with the distance dx being smaller than a length of the irradiated film area Ab. With the steps performed to form respective columns, the elongated columns overlap one another covering the desired thin film area Af. The dx and dy distances are so selected that each location of the film area Af is exposed to the shaped laser beam during a cumulative predetermined duration.
(FR) L'invention concerne un procédé de traitement par laser à fibre d'un film mince déposé sur un substrat, comprenant l'utilisation d'un faisceau laser, en provenance d'au moins un laser à fibre, qui est guidé à travers une unité de mise en forme de faisceau pour être amené jusqu'au film mince. L'optique de mise en forme de faisceau est conçue pour donner au faisceau laser la forme d'un faisceau linéaire qui éclaire une première zone Ab du film mince éclairé à la surface du film mince, la zone Ab éclairée du film mince correspondant à une fraction de la zone Af du film mince. En déplaçant en continu l'optique de mise en forme de faisceau et le film l'un par rapport à l'autre dans une première direction sur une distance dy entre deux éclairages successifs, une succession de zones Ab homogènes éclairées du film mince sont formées à la surface du film, délimitant ainsi une première colonne allongée. Par la suite, l'optique de mise en forme de faisceau et le film sont déplacés l'un par rapport à l'autre sur une distance dx dans une seconde direction, transversale à la première direction, la distance dx étant inférieure à la longueur d'une zone éclairée Ab du film. Grâce aux étapes mises en œuvre pour former les différentes colonnes, les colonnes allongées se chevauchent les unes les autres recouvrant ainsi la zone Af souhaitée du film mince. Les distances dx et dy sont sélectionnées de façon à ce que chaque emplacement de la zone de film Af soit exposé au faisceau laser mis en forme pendant une durée cumulée prédéterminée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)