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1. (WO2019028049) MAGNÉTRON INVERSÉ POUR LE TRAITEMENT DE MATÉRIAUX EN COUCHES MINCES
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N° de publication : WO/2019/028049 N° de la demande internationale : PCT/US2018/044650
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 31.07.2018
CIB :
H01J 37/34 (2006.01) ,C23C 14/35 (2006.01) ,H01F 7/02 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
34
fonctionnant par pulvérisation cathodique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
34
Pulvérisation cathodique
35
par application d'un champ magnétique, p.ex. pulvérisation au moyen d'un magnétron
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
F
AIMANTS; INDUCTANCES; TRANSFORMATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS MAGNÉTIQUES
7
Aimants
02
Aimants permanents
Déposants :
HIA, INC. [US/US]; 2456 Research Dr. Livermore, CA 94550, US
Inventeurs :
HARKNESS, Samuel, D., IV; US
TRAN, Quang, N.; US
Mandataire :
GALLIANI, William, S.; US
ZIMMER, Kevin, J.; US
Données relatives à la priorité :
62/540,47302.08.2017US
Titre (EN) INVERTED MAGNETRON FOR PROCESSING OF THIN FILM MATERIALS
(FR) MAGNÉTRON INVERSÉ POUR LE TRAITEMENT DE MATÉRIAUX EN COUCHES MINCES
Abrégé :
(EN) A magnet pack has a permeable assembly with a first cutout for a center magnet and second cutouts for peripheral magnets surrounding the center magnet. A target is attached to the permeable assembly. A heatsink is attached to the target. Emanating magnetic fields from the magnet pack progress from an inner atmospheric side to a position substantially within a vacuum cavity. The emanating magnetic fields from the center magnet are substantially stronger than the emanating magnetic fields from the peripheral magnets.
(FR) La présente invention concerne un bloc magnétique doté d'un ensemble perméable présentant une première découpe pour un aimant central et de secondes découpes pour des aimants périphériques entourant l'aimant central. Une cible est fixée à l'ensemble perméable. Un dissipateur thermique est fixé à la cible. Les champs magnétiques émanant du bloc magnétique progressent d'un côté atmosphérique interne à une position sensiblement à l'intérieur d'une cavité sous vide. Les champs magnétiques émanant de l'aimant central sont sensiblement plus forts que les champs magnétiques émanant des aimants périphériques.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)