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1. (WO2019027907) COMPOSÉS 1,1,1-TRIS(ORGANOAMINO)DISILANES ET LEUR PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
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N° de publication : WO/2019/027907 N° de la demande internationale : PCT/US2018/044392
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 30.07.2018
CIB :
C01B 33/04 (2006.01) ,C07F 7/10 (2006.01) ,C23C 16/00 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
04
Hydrures de silicium
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
F
COMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
7
Composés contenant des éléments du 4ème groupe de la classification périodique
02
Composés du silicium
08
Composés comportant une ou plusieurs liaisons C-Si
10
azotés
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
Déposants :
DOW SILICONES CORPORATION [US/US]; 2200 West Salzburg Road Auburn, Michigan 48686-0994, US
Inventeurs :
HWANG, Byung K.; US
ZHOU, Xiaobing; US
Mandataire :
PECK, Randall J.; US
BALLOR, Nicholas R.; US
BECKER, Rebecca A.; US
BONDARENKO, Gregory P.; US
BURPEE, Charles E.; US
CIARAVINO, Vito A.; US
COLLINS, Catherine S.; US
DANI, William P.; US
DEVRIES, Nathan J.; US
GOSKA, Matthew L.; US
HARRIER, Ian M.; US
ISTVAN-MITCHELL, Wyatt J.; US
KLEINHEKSEL, Chad E.; US
SHUNTA, Dustin H.; US
Données relatives à la priorité :
62/538,95731.07.2017US
Titre (EN) 1,1,1-TRIS(ORGANOAMINO)DISILANE COMPOUNDS AND METHOD OF PREPARING SAME
(FR) COMPOSÉS 1,1,1-TRIS(ORGANOAMINO)DISILANES ET LEUR PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
Abrégé :
(EN) A 1,1,1-tris(organoamino)disilane compound and a method of preparing the 1,1,1-tris(organoamino)disilane compound are disclosed. The method comprises aminating a 1,1,1-trihalodisilane with an aminating agent comprising an organoamine compound to give a reaction product comprising the 1,1,1-tris(organoamino)disilane compound, thereby preparing the 1,1,1-tris(organoamino)disilane compound. A film-forming composition is also disclosed. The film-forming composition comprises the 1,1,1-tris(organoamino)disilane compound. A film formed with the film-forming composition, and a method of forming the film, are also disclosed. The method of forming the film comprises subjecting the film-forming composition comprising the 1,1,1-tris(organoamino)disilane compound to a deposition condition in the presence of a substrate, thereby forming the film on the substrate.
(FR) La présente invention concerne un composé 1,1,1-tris(organoamino)disilane et un procédé de préparation du composé 1,1,1-tris(organoamino)disilane. Le procédé comprend l’amination de 1,1,1-trihalodisilane avec un agent d’amination comprenant un composé organoamine pour donner un produit réactionnel comprenant le composé 1,1,1-tris(organoamino)disilane, préparant ainsi le composé 1,1,1-tris(organoamino)disilane. La présente invention concerne également une composition formant film. La composition formant film comprend le composé 1,1,1-tris(organoamino)disilane. La présente invention concerne également un film formé avec la composition formant film, et un procédé de formation du film. Le procédé de formation du film comprend la soumission de la composition formant film comprenant le composé 1,1,1-tris(organoamino)disilane à une condition de dépôt en présence d’un substrat, formant ainsi le film sur le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)