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1. (WO2019027748) MÉTROLOGIE DE SUPERPOSITION UTILISANT DE MULTIPLES CONFIGURATIONS DE PARAMÈTRES
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N° de publication : WO/2019/027748 N° de la demande internationale : PCT/US2018/043606
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 25.07.2018
CIB :
H01L 21/66 (2006.01) ,H01L 23/544 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
23
Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
544
Marques appliquées sur le dispositif semi-conducteur, p.ex. marques de repérage, schémas d'essai
Déposants :
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs :
HILL, Andrew, V.; US
SHCHEGROV, Andrei; US
MANASSEN, Amnon; IL
SAPIENS, Noam; US
Mandataire :
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M. N.; US
Données relatives à la priorité :
15/667,40102.08.2017US
Titre (EN) OVERLAY METROLOGY USING MULTIPLE PARAMETER CONFIGURATIONS
(FR) MÉTROLOGIE DE SUPERPOSITION UTILISANT DE MULTIPLES CONFIGURATIONS DE PARAMÈTRES
Abrégé :
(EN) An overlay metrology system includes an overlay metrology tool configurable to generate overlay signals with a plurality of recipes and further directs an illumination beam to an overlay target and collects radiation emanating from the overlay target in response to the at least a portion of the illumination beam to generate the overlay signal with the particular recipe. The overlay metrology system further acquires two or more overlay signals for a first overlay target using two or more unique recipes, subsequently acquires two or more overlay signals for a second overlay target using the two or more unique recipes, determines candidate overlays for the first and second overlay targets based on the two or more overlay signals for each target, and determines output overlays for the first and second overlay targets based on the two or more candidate overlays for each target.
(FR) La présente invention porte sur un système de métrologie de superposition qui comprend un outil de métrologie de superposition configurable pour générer des signaux de superposition avec une pluralité de recettes et dirige en outre un faisceau d'éclairage vers une cible de superposition et collecte un rayonnement émanant de la cible de superposition en réponse à au moins une partie du faisceau d'éclairage pour générer le signal de superposition avec la recette particulière. Le système de métrologie de superposition acquiert en outre au moins deux signaux de superposition pour une première cible de superposition à l'aide d'au moins deux recettes uniques, puis acquiert au moins deux signaux de superposition pour une seconde cible de superposition à l'aide desdites au moins deux recettes uniques, détermine des superpositions candidates pour les première et seconde cibles de superposition sur la base desdits au moins deux signaux de superposition pour chaque cible, et détermine des superpositions de sortie pour les première et seconde cibles de superposition sur la base desdites au moins deux superpositions candidates pour chaque cible.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)