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1. (WO2019027744) MÉTROLOGIE DE RECOUVREMENT FAISANT APPEL À DE MULTIPLES CONFIGURATIONS DE PARAMÈTRES
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N° de publication : WO/2019/027744 N° de la demande internationale : PCT/US2018/043583
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 25.07.2018
CIB :
H01L 21/66 (2006.01) ,H01L 23/544 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
23
Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
544
Marques appliquées sur le dispositif semi-conducteur, p.ex. marques de repérage, schémas d'essai
Déposants :
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs :
HILL, Andrew V.; US
SHCHEGROV, Andrei; US
MANASSEN, Amnon; IL
SAPIENS, Noam; US
Mandataire :
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M. N.; US
Données relatives à la priorité :
15/667,40102.08.2017US
Titre (EN) OVERLAY METROLOGY USING MULTIPLE PARAMETER CONFIGURATIONS
(FR) MÉTROLOGIE DE RECOUVREMENT FAISANT APPEL À DE MULTIPLES CONFIGURATIONS DE PARAMÈTRES
Abrégé :
(EN) An overlay metrology system includes an overlay metrology tool configurable to generate overlay signals with a plurality of recipes and further directs an illumination beam to an overlay target and collects radiation emanating from the overlay target in response to the at least a portion of the illumination beam to generate the overlay signal with the particular recipe. The overlay metrology system further acquires two or more overlay signals for a first overlay target using two or more unique recipes, subsequently acquires two or more overlay signals for a second overlay target using the two or more unique recipes, determines candidate overlays for the first and second overlay targets based on the two or more overlay signals for each target, and determines output overlays for the first and second overlay targets based on the two or more candidate overlays for each target.
(FR) La présente invention concerne un système de métrologie de recouvrement qui comprend un outil de métrologie de recouvrement configurable pour produire des signaux de recouvrement selon une pluralité de recettes et dirige en outre un faisceau d'éclairage vers une cible de recouvrement et collecte un rayonnement provenant de la cible de recouvrement en réponse à la au moins une partie du faisceau d'éclairage pour produire le signal de recouvrement selon la recette particulière. Le système de métrologie de recouvrement acquiert en outre au moins deux signaux de recouvrement pour une première cible de recouvrement selon au moins deux recettes uniques, puis acquiert au moins deux signaux de recouvrement pour une seconde cible de recouvrement selon au moins deux recettes uniques, détermine des recouvrements candidats pour les première et seconde cibles de recouvrement sur la base des au moins deux signaux de recouvrement pour chaque cible et détermine des recouvrements de sortie pour les première et seconde cibles de recouvrement sur la base des au moins deux recouvrements candidats pour chaque cible.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)