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1. (WO2019027659) POLYMÈRES À BASE D'ÉTHYLÈNE PRÉSENTANT DE NOUVELLES DISTRIBUTIONS D'INSATURATIONS TERMINALES ET INTERNES
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N° de publication : WO/2019/027659 N° de la demande internationale : PCT/US2018/042141
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 13.07.2018
CIB :
C08F 2/01 (2006.01) ,C08F 2/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
01
caractérisés par des éléments particuliers des appareils de polymérisation utilisés
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
04
Polymérisation en solution
10
Solvant aqueux
Déposants :
DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC [US/US]; 2040 Dow Center Midland, MI 48674, US
Inventeurs :
BERBEE, Otto J.; NL
HINRICHS, Stefan; NL
CHAUDHARY, Bharat I.; US
KARJALA, Teresa P.; US
OSBY, John O.; US
ORTEGA, Jose; US
Mandataire :
MOLLOY, Matthew A.; US
Données relatives à la priorité :
62/539,09331.07.2017US
Titre (EN) ETHYLENE-BASED POLYMERS WITH NEW DISTRIBUTIONS OF TERMINAL AND INTERNAL UNSATURATIONS
(FR) POLYMÈRES À BASE D'ÉTHYLÈNE PRÉSENTANT DE NOUVELLES DISTRIBUTIONS D'INSATURATIONS TERMINALES ET INTERNES
Abrégé :
(EN) A high pressure, free radical polymerization process to form an ethylene-based polymer, the process comprising at least the following step: polymerizing a reaction mixture comprising ethylene, using a polymerization system comprising the following: (A) a reactor configuration comprising at least one reactor that comprises at least two reaction zones, a first reaction zone (reaction zone 1) and an ith reaction zone (where i ≥ 2); wherein the ith reaction zone is the last reaction zone, and wherein i is the total number of reaction zones; (B) at least two ethylene-based feed streams, a first ethylene-based feed stream and an nth ethylene-based feed stream, wherein the first ethylene-based feed stream is sent to the first reaction zone, and the nth ethylene-based feed stream is the last ethylene based feed stream sent to the reactor configuration; wherein n ≤ i; and RZn/RZ1 does not equal 1.0, where RZ1 = mole fraction of make-up ethylene in the first ethylene-based feed stream to the first reaction zone; where RZn = mole fraction of make-up ethylene in the last ethylene-based feed stream sent to the reactor configuration; (C) a control system to control the percentage of the make-up ethylene in the first ethylene-based feed stream, and the percentage of the make-up ethylene in the nth ethylene- based feed stream; and wherein at least one reaction zone receives a CTA make-up feed stream comprising an alpha-olefin, and wherein the alpha-olefin has a chain transfer activity constant (Cs) value ≤ 0.10, and wherein the chain transfer activity constant (Cs) is measured at 1360 atm, 130°C.
(FR) La présente invention concerne un procédé de polymérisation radicalaire à haute pression permettant de former un polymère à base d'éthylène, le procédé comprenant au moins l'étape suivante : la polymérisation d'un mélange réactionnel comprenant de l'éthylène, à l'aide d'un système de polymérisation comprenant les éléments suivants : (A) une configuration de réacteur comprenant au moins un réacteur qui comporte au moins deux zones de réaction, une première zone de réaction (zone de réaction 1) et une ième zone de réaction (où i ≥2) ; la ième zone de réaction étant la dernière zone de réaction, et i étant le nombre total de zones de réaction ; (B) au moins deux courants d'alimentation à base d'éthylène, un premier courant d'alimentation à base d'éthylène et un nième courant d'alimentation à base d'éthylène, le premier courant d'alimentation à base d'éthylène étant envoyé à la première zone de réaction, et le nième courant d'alimentation à base d'éthylène étant le dernier courant d'alimentation à base d'éthylène envoyé à la configuration de réacteur ; où n ≤ i ; et RZn/RZ1 n'est pas égal à 1,0, où RZ1 = fraction molaire d'éthylène d'appoint dans le premier courant d'alimentation à base d'éthylène vers la première zone de réaction ; où RZn = fraction molaire d'éthylène d'appoint dans le dernier courant d'alimentation à base d'éthylène envoyé à la configuration de réacteur ; (C) un système de commande pour réguler le pourcentage de l'éthylène d'appoint dans le premier courant d'alimentation à base d'éthylène, et le pourcentage de l'éthylène d'appoint dans le nième courant d'alimentation à base d'éthylène ; et au moins une zone de réaction recevant un courant d'alimentation d'appoint de CTA comprenant une alpha-oléfine, et l'alpha-oléfine ayant une valeur de constante d'activité de transfert de chaîne (Cs) ≤ 0,10, et la constante d'activité de transfert de chaîne (Cs) étant mesurée à 1 360 atm, 130° C.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)