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1. (WO2019027153) CORPS FRITTÉ OBTENU PAR FRITTAGE D'UN OXYDE COMPOSITE, CIBLE DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT D'OXYDE
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N° de publication : WO/2019/027153 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/007802
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 10.07.2018
CIB :
C04B 35/462 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01) ,H01B 5/14 (2006.01) ,H01B 1/08 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
04
CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
B
CHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35
Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
01
à base d'oxydes
46
à base d'oxydes de titane ou de titanates
462
à base de titanates
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
34
Pulvérisation cathodique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
06
caractérisé par le matériau de revêtement
08
Oxydes
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
B
CÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
5
Conducteurs ou corps conducteurs non isolés caractérisés par la forme
14
comprenant des couches ou pellicules conductrices sur supports isolants
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
B
CÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
1
Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs
06
composés principalement d'autres substances non métalliques
08
oxydes
Déposants :
주식회사 나노신소재 ADVANCED NANO PRODUCTS CO., LTD. [KR/KR]; 세종시 부강면 금호안골길 78 (부용지방산업단지내) (Buyong Regional Industrial Complex) 78, Geumhoangol-gil, Bugang-myeon, Sejong 30077, KR
Inventeurs :
김상희 KIM, Sang-Hui; KR
Mandataire :
특허법인오암 OAM PATENT & TRADEMARK LAW FIRM; 대전시 서구 문예로 69, 201호(둔산동, 오성빌딩) (Osung Bldg., Dunsan-dong)201, 69, Munye-ro, Seo-gu, Daejeon 35240, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-009844903.08.2017KR
Titre (EN) COMPOSITE OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
(FR) CORPS FRITTÉ OBTENU PAR FRITTAGE D'UN OXYDE COMPOSITE, CIBLE DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT D'OXYDE
(KO) 복합 산화물 소결체 및 스퍼터링 타겟, 산화물 투명도전막의 제조방법
Abrégé :
(EN) The present invention provides: a composite oxide sintered body in which a composite oxide sintered body composition comprising indium, titanium, zirconium and oxygen comprises, as a dopant (X), one element among gallium, tantalum and niobium, wherein the titanium is included in an atomic ratio of Ti/(In+Ti+Zr+X) of 0.1-0.5 atom% and the zirconium is included in an atomic ratio of Zr/(In+Ti+Zr+X) of 0.1-1.5 atom%; a sputtering target formed from a sintered body; and an oxide transparent conductive film manufactured therefrom.
(FR) La présente invention concerne : un corps fritté obtenu par frittage d'un oxyde composite, dans lequel une composition de corps fritté obtenu par frittage d'un oxyde composite, contenant de l'indium, du titane, du zirconium et de l'oxygène, comprend en tant que dopant (X) un élément parmi le gallium, le tantale et le niobium, le titane étant contenu dans un rapport atomique Ti/(In+Ti+Zr+X) de 0,1 à 0,5 % atomique et le zirconium étant contenu dans un rapport atomique Zr/(In+Ti+Zr+X) de 0,1 à 1,5 % atomique ; une cible de pulvérisation formée à partir d'un corps fritté ; et un film conducteur transparent d'oxyde fabriqué à partir de celui-ci.
(KO) 본 발명은 인듐, 티타늄, 지르코늄 및 산소를 포함하는 복합 산화물 소결체 조성물에 도펀트(X)로 갈륨, 탄탈륨, 니오븀 중 하나의 성분을 포함하고, 상기 티타늄은 원자비로 Ti/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 0.5 원자%, 상기 지르코늄은 원자비로 Zr/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 1.5 원자%를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합산화물 소결체 및 상기 소결체로 이루어진 스퍼터링 타겟 및 이로부터 제조된 산화물 투명 도전막을 제공하는 것을 특징으로 한다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)