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1. (WO2019026624) MÉCANISME D'APPLICATION DE REVÊTEMENT ET DISPOSITIF D'APPLICATION DE REVÊTEMENT
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N° de publication : WO/2019/026624 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/026914
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 18.07.2018
CIB :
B05C 1/02 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
C
APPAREILLAGES POUR L'APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
1
Appareillages dans lesquels un liquide ou autre matériau fluide est appliqué à la surface de l'ouvrage par contact avec un élément portant le liquide ou autre matériau fluide, p.ex. un élément poreux imprégné du liquide à appliquer sous forme de revêtement
02
pour appliquer un liquide ou autre matériau fluide à des objets individuels
Déposants :
NTN株式会社 NTN CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市西区京町堀1丁目3番17号 3-17, Kyomachibori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500003, JP
Inventeurs :
山中 昭浩 YAMANAKA, Akihiro; JP
艾 東克隆 AI, Dongkelong; JP
中村 陽香 NAKAMURA, Haruka; JP
Mandataire :
特許業務法人深見特許事務所 FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; 大阪府大阪市北区中之島三丁目2番4号 中之島フェスティバルタワー・ウエスト Nakanoshima Festival Tower West, 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
Données relatives à la priorité :
2017-14988402.08.2017JP
Titre (EN) COATING MECHANISM AND COATING DEVICE
(FR) MÉCANISME D'APPLICATION DE REVÊTEMENT ET DISPOSITIF D'APPLICATION DE REVÊTEMENT
(JA) 塗布機構及び塗布装置
Abrégé :
(EN) According to one embodiment of the present invention, a coating mechanism (10) employs a coating needle (63) to coat a coating material on a substrate (SUB). The coating mechanism comprises: a holder base (61); a slide mechanism (64) attached to the inner part of the holder base; a coating needle fixing member (62) to which the coating needle is attached, and which is supported by the slide mechanism so as to be slidable along the extension direction of the coating needle; and a position-maintaining mechanism (65) that maintains the position of the coating needle fixing member relative to the slide mechanism. The position-maintaining mechanism maintains the position of the coating needle fixing member relative to the slide mechanism until immediately before the tip of the coating needle contacts the substrate. The position-maintaining mechanism allows change in the position of the coating needle fixing member relative to the slide mechanism from immediately before the tip of the coating needle contacts the substrate, until said tip is separated from the substrate.
(FR) Selon un mode de réalisation de la présente invention, un mécanisme d'application de revêtement (10) emploie une aiguille d'application de revêtement (63) pour appliquer une matière de revêtement en revêtement sur un substrat (SUB). Le mécanisme d'application de revêtement comprend : une base de support (61) ; un mécanisme de coulissement (64) fixé à la partie interne de la base de support ; un élément de fixation d'aiguille d'application de revêtement (62) auquel l'aiguille d'application de revêtement est fixée et qui est supporté par le mécanisme de coulissement de façon à pouvoir coulisser le long de la direction dans laquelle l'aiguille d'application de revêtement s'étend ; et un mécanisme de maintien de position (65) qui maintient la position de l'élément de fixation d'aiguille d'application de revêtement par rapport au mécanisme de coulissement. Le mécanisme de maintien de position maintient la position de l'élément de fixation d'aiguille d'application de revêtement par rapport au mécanisme de coulissement jusqu'au moment immédiatement avant que la pointe de l'aiguille d'application de revêtement entre en contact avec le substrat. Le mécanisme de maintien de position permet un changement de la position de l'élément de fixation d'aiguille d'application de revêtement par rapport au mécanisme de coulissement depuis le moment immédiatement avant que la pointe de l'aiguille d'application de revêtement entre en contact avec le substrat jusqu'au moment où ladite pointe est séparée du substrat.
(JA) 本発明の一態様に係る塗布機構は、塗布針(63)を用いて基板(SUB)上に塗布材料を塗布する塗布機構(10)である。本発明の一態様に係る塗布機構は、ホルダベース(61)と、ホルダベースの内部に取り付けられるスライド機構(64)と、塗布針が取り付けられ、かつスライド機構によって塗布針の延在方向に沿ってスライド自在に支持される塗布針固定部材(62)と、塗布針固定部材のスライド機構に対する相対的な位置を保持する位置保持機構(65)とを備える。位置保持機構は、塗布針の先端が基板と接触する直前までの間において、塗布針固定部材のスライド機構に対する相対的な位置を保持する。位置保持機構は、塗布針の先端が基板と接触する直前から基板から離間するまでの間において、塗布針固定部材のスライド機構に対する相対的な位置の変化を許容する。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)