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1. (WO2019025717) COMPOSITION PHOTOPOLYMÉRISABLE, MATÉRIAU OBTENU PAR POLYMÉRISATION D'UNE TELLE COMPOSITION ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION 3D UTILISANT UNE TELLE COMPOSITION
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N° de publication : WO/2019/025717 N° de la demande internationale : PCT/FR2018/051963
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 31.07.2018
CIB :
C08F 2/50 (2006.01) ,C08F 22/10 (2006.01) ,C09K 11/07 (2006.01) ,B29C 64/264 (2017.01) ,B29C 64/129 (2017.01) ,B33Y 70/00 (2015.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,B33Y 30/00 (2015.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,C08F 122/10 (2006.01) ,C08F 299/02 (2006.01) ,C08J 3/28 (2006.01) ,C08J 5/18 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/028 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
46
Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
48
par la lumière ultraviolette ou visible
50
avec des agents sensibilisants
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
22
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone, l'un au moins étant terminé par un radical carboxyle et contenant au moins un autre radical carboxyle dans la molécule; Leurs sels, anhydrides, esters, amides, imides ou nitriles
10
Esters
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
11
Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes
06
contenant des substances organiques luminescentes
07
ayant des constituants réagissant chimiquement entre eux, p.ex. compositions chimi-luminescentes réactives
[IPC code unknown for B29C 64/264][IPC code unknown for B29C 64/129][IPC code unknown for B33Y 70][IPC code unknown for B33Y 10][IPC code unknown for B33Y 30]
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
122
Homopolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un radical carboxyle, et contenant au moins un autre radical carboxyle dans la molécule; Leurs sels, anhydrides, esters, amides, imides ou nitriles
10
Esters
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
299
Composés macromoléculaires obtenus par des interréactions de polymères impliquant uniquement des réactions entre des liaisons non saturées carbone-carbone, en l'absence de monomères non macromoléculaires
02
à partir de polycondensats non saturés
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
3
Procédés pour le traitement de substances macromoléculaires ou la formation de mélanges
28
Traitement par ondes énergétiques ou par rayonnement de particules
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
5
Fabrication d'objets ou de matériaux façonnés contenant des substances macromoléculaires
18
Fabrication de bandes ou de feuilles
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
028
avec des substances accroissant la photosensibilité, p.ex. photo-initiateurs
Déposants :
ECOLE NORMALE SUPERIEURE DE LYON [FR/FR]; 15 PARVIS RENE DESCARTES 69007 LYON, FR
UNIVERSITE CLAUDE BERNARD LYON 1 [FR/FR]; 43 BOULEVARD DU ONZE NOVEMBRE 1918 69100 VILLEURBANNE, FR
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3 RUE MICHEL ANGE 75016 PARIS, FR
Inventeurs :
BALDECK, Patrice; FR
BANYASZ, Akos; FR
Mandataire :
COLOMBO, Michel; FR
BOUCHET, Geneviève; FR
GUERIN, Jean-Philippe; FR
Données relatives à la priorité :
175740102.08.2017FR
Titre (EN) PHOTOPOLYMERISABLE COMPOSITION, MATERIAL OBTAINED BY POLYMERISING SUCH A COMPOSITION AND 3D PRINTING METHOD USING SUCH A COMPOSITION
(FR) COMPOSITION PHOTOPOLYMÉRISABLE, MATÉRIAU OBTENU PAR POLYMÉRISATION D'UNE TELLE COMPOSITION ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION 3D UTILISANT UNE TELLE COMPOSITION
Abrégé :
(EN) The invention relates to a photopolymerisable composition comprising at least: one polymerisable resin; one photosensitiser (PS); one annihilator (AN); and one photoinitiator (PI), the photosensitiser being capable of absorbing an excitation light signal received in a first range of wavelengths, the annihilator being capable of transmitting a light signal in a second range of wavelengths different from the first range of wavelengths, in which, when light is absorbed by the photosensitiser in said first range of wavelengths, the annihilator transmits a light signal in the second range of wavelengths, with photonic energy of the light signal emitted by the annihilator being greater than the photonic energy of the light signal received by the photosensitiser, in which the annihilator is capable of implementing an energy transfer mechanism to excite the polymerisation photoinitiator (PI) of the resin, and in which the excited photoinitiator is capable of generating at least one polymerisation initiator capable of causing a polymerisation reaction of the resin. The invention also relates to a polymerisation method by polymerising a composition as described above and a material obtained by the method. The invention also relates to a 3D printing method using a composition as described above.
(FR) L'invention concerne une composition photopolymérisable comprenant au moins : une résine polymérisable, un photosensibilisateur (PS), un annihilateur (AN), et un photoinitiateur (PI) le photosensibilisateur étant capable d'absorber un signal lumineux d'excitation reçu dans une première plage de longueurs d'ondes, l'annihilateur étant capable d'émettre un signal lumineux dans une deuxième plage de longueurs d'ondes différente de la première plage de longueurs d'ondes, dans laquelle, lors de l'absorption de lumière par le photosensibilisateur dans la dite première plage de longueurs d'ondes, l'annihilateur émet un signal lumineux dans la deuxième plage de longueurs d'ondes, une énergie photonique du signal lumineux émis par l'annihilateur étant supérieure à une énergie photonique du signal lumineux reçu par le photosensibilisateur, dans laquelle l'annihilateur est capable de mettre en œuvre un mécanisme de transfert d'énergie pour exciter le photoinitiateur (PI) de polymérisation de la résine, et dans laquelle le photoinitiateur excité est capable de générer au moins un initiateur de polymérisation apte à provoquer une réaction de polymérisation de la résine. L'invention concerne également un procédé de polymérisation par polymérisation d'une composition telle que décrite ci-dessus et un matériau obtenu par le procédé. L'invention concerne également un procédé d'impression 3D utilisant une composition telle que décrite ci-dessus.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)