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1. (WO2019025188) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS D'INONDATION DE PARTICULES CHARGÉES EN VUE DE L'AMÉLIORATION D'UN SIGNAL DE DÉFAUT DE CONTRASTE DE TENSION
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N° de publication : WO/2019/025188 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/069524
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 18.07.2018
CIB :
H01J 37/26 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28
avec faisceaux de balayage
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
HERMES MICROVISION, INC.; 7F, No.18, Puding Rd., East Dist. Hsinchu City, 300, TW
Inventeurs :
ZHANG, Frank, Nan; US
CHEN, Zhongwei; US
WANG, Yixiang; US
SHEN, Ying, Crystal; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/540,54802.08.2017US
62/550,61326.08.2017US
Titre (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR CHARGED PARTICLE FLOODING TO ENHANCE VOLTAGE CONTRAST DEFECT SIGNAL
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS D'INONDATION DE PARTICULES CHARGÉES EN VUE DE L'AMÉLIORATION D'UN SIGNAL DE DÉFAUT DE CONTRASTE DE TENSION
Abrégé :
(EN) Systems and methods for implementing charged particle flooding in a charged particle beam apparatus are disclosed. According to certain embodiments, a charged particle beam system includes a charged particle source and a controller which controls the charged particle beam system to emit a charged particle beam in a first mode where the beam is defocused and a second mode where the beam is focused on a surface of a sample.
(FR) L'invention porte sur des systèmes et des procédés de mise en œuvre d'une inondation de particules chargées dans un appareil à faisceau de particules chargées. Selon certains modes de réalisation, un système de faisceau de particules chargées comprend une source de particules chargées et un dispositif de commande qui commande le système de faisceau de particules chargées de façon à émettre un faisceau de particules chargées dans un premier mode dans lequel le faisceau est défocalisé et dans un second mode dans lequel le faisceau est focalisé sur une surface d'un échantillon.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)