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1. (WO2019025162) AGENCEMENT OPTIQUE POUR RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME COMPORTANT UN ÉCRAN POUR LA PROTECTION CONTRE L’EFFET CAUSTIQUE D’UN PLASMA
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N° de publication : WO/2019/025162 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/069137
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 13.07.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
LIEBAUG, Björn; DE
BECKER, Moritz; DE
HILD, Kerstin; DE
HARTJES, Joachim; DE
HAAS, Simon; DE
Mandataire :
KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Gropiusplatz 10 70563 Stuttgart, DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 213 181.031.07.2017DE
Titre (EN) OPTICAL ARRANGEMENT FOR EUV RADIATION WITH A SHIELD FOR PROTECTION AGAINST THE ETCHING EFFECT OF A PLASMA
(FR) AGENCEMENT OPTIQUE POUR RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME COMPORTANT UN ÉCRAN POUR LA PROTECTION CONTRE L’EFFET CAUSTIQUE D’UN PLASMA
(DE) OPTISCHE ANORDNUNG FÜR EUV-STRAHLUNG MIT EINER ABSCHIRMUNG ZUM SCHUTZ VOR DER ÄTZWIRKUNG EINES PLASMAS
Abrégé :
(EN) The invention relates to an optical arrangement (1) for EUV radiation, comprising: at least one reflective optical element (16) having a main body (30) with a coating (31) that reflects EUV radiation (33). At least one shield (36) is fitted to at least one surface region (35) of the main body (30) and protects the at least one surface region (35) against an etching effect of a plasma (H+, H*) that surrounds the reflective optical element (16) during operation of the optical arrangement (1). A distance (A) between the shield (36) and the surface region (35) of the main body (30) is less than double the Debye length (ho), preferably less than the Debye length (ÄD), of the surrounding plasma (H+, H*).
(FR) La présente invention concerne un agencement optique (1) pour un rayonnement ultraviolet extrême, comportant : au moins un élément optique réfléchissant (16) qui comprend un corps de base (30) pourvu d’un revêtement (31) réfléchissant un rayonnement ultraviolet extrême (33). Au niveau d’au moins une zone de surface (35) du corps de base (30) est installé au moins un écran (36) qui protège la ou les zones de surface (35) contre un effet caustique d’un plasma (H+, H*) environnant l’élément optique réfléchissant (16) lors du fonctionnement de l’agencement optique (1). Une distance (A) entre l’écran (36) et la zone de surface (35) du corps de base (30) est inférieure au double de la longueur de Debye (ho), de préférence inférieure à la longueur de Debye (ÄD) du plasma environnant (H+, H*).
(DE) Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung (1 ) für EUV-Strahlung, umfassend: mindestens ein reflektierendes optisches Element (16), das einen Grundkörper (30) mit einer EUV-Strahlung (33) reflektierenden Beschichtung (31 ) aufweist. An mindestens einem Oberflächenbereich (35) des Grundkörpers (30) ist mindestens eine Abschirmung (36) angebracht, die den mindestens einen Oberflächenbereich (35) vor einer Ätzwirkung eines das reflektierende optische Element (16) im Betrieb der optischen Anordnung (1 ) umgebenden Plasmas (H+, H*) schützt. Ein Abstand (A) zwischen der Abschirmung (36) und dem Oberflächenbereich (35) des Grundkörpers (30) ist kleiner als das Doppelte der Debye-Länge (ho), bevorzugt kleiner als die Debye-Länge (ÄD) des umgebenden Plasmas (H+, H*).
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)