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1. (WO2019025142) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET PRODUIT DE PROGRAMME INFORMATIQUE
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N° de publication : WO/2019/025142 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/068751
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 11.07.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,B24B 37/005 (2012.01) ,G01N 21/47 (2006.01) ,G01N 21/84 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
[IPC code unknown for B24B 37/05]
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
17
Systèmes dans lesquels la lumière incidente est modifiée suivant les propriétés du matériau examiné
47
Dispersion, c. à d. réflexion diffuse
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
CALADO, Victor, Emanuel; NL
VAN HAREN, Richard, Johannes, Franciscus; NL
DEPRE, Jerome, Yann, Remi; NL
MASSACRIER, Clément, André, Auguste; NL
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
17184435.002.08.2017EP
Titre (EN) A DEVICE MANUFACTURING METHOD AND A COMPUTER PROGRAM PRODUCT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET PRODUIT DE PROGRAMME INFORMATIQUE
Abrégé :
(EN) A device manufacturing method comprising: forming a layer on a substrate by a layer-forming process; determining a value of a metric at a plurality of positions across the substrate, wherein variation of the values across the substrate is indicative of variation of layer thickness across the substrate; controlling the layer-forming parameter based on the values so as to reduce variation of layer thickness in a subsequent layer-forming process on a different substrate; and repeating the layer- forming process on a different substrate according to the controlled layer-forming parameter.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication de dispositif qui comprend : la formation d'une couche sur un substrat par un processus de formation de couche ; la détermination d'une valeur d'une mesure prise à une pluralité de positions sur le substrat, la variation des valeurs prises sur le substrat étant indicative d'une variation d'épaisseur de couche sur le substrat ; la commande du paramètre de formation de couche sur la base des valeurs obtenues de façon à réduire la variation d'épaisseur de couche dans un processus de formation de couche subséquent sur un substrat différent ; et la répétition du processus de formation de couche sur un substrat différent selon le paramètre de formation de couche commandé.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)