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1. (WO2019025109) ÉLÉMENT OPTIQUE RÉFLECTEUR POUR LA LITHOGRAPHIE À ULTRAVIOLETS EXTRÊMES ET PROCÉDÉ D’ADAPTATION D’UNE GÉOMÉTRIE D’UN COMPOSANT
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N° de publication : WO/2019/025109 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/067934
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 03.07.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/24 (2012.01) ,G21K 1/06 (2006.01) ,G02B 5/08 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
22
Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p.ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]; Leur préparation
24
Masques en réflexion; Leur préparation
G PHYSIQUE
21
PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
K
TECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
1
Dispositions pour manipuler des particules ou des rayonnements ionisants, p.ex. pour focaliser ou pour modérer
06
utilisant la diffraction, la réfraction ou la réflexion, p.ex. monochromateurs
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
08
Miroirs
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
DINGER, Udo; DE
Mandataire :
KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Gropiusplatz 10 70563 Stuttgart, DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 213 406.202.08.2017DE
Titre (EN) REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD FOR ADAPTING A GEOMETRY OF A COMPONENT
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE RÉFLECTEUR POUR LA LITHOGRAPHIE À ULTRAVIOLETS EXTRÊMES ET PROCÉDÉ D’ADAPTATION D’UNE GÉOMÉTRIE D’UN COMPOSANT
(DE) REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR ANPASSUNG EINER GEOMETRIE EINER KOMPONENTE
Abrégé :
(EN) The disclosure also relates to a reflective optical element (1) for reflecting light having at least one wavelength in an EUV wavelength range. The optical element (1) comprises an optically effective region configured for reflecting the light incident on a surface (2) of the optically effective region. The reflective optical element (1) has an edge (4) forming at least part of a boundary of an edgeless surface (3) of the reflective optical element (1), wherein the edgeless surface (3) comprises the surface (2) of the optically effective region. The edge (4) has a chamfer and/or a rounding. The disclosure also relates to a method for adapting a geometry of at least one surface region of a component of an optical arrangement, for example of a reflective optical element (1).
(FR) La présente invention concerne un élément optique réflecteur (1) destiné à la réflexion d’une lumière qui comprend au moins une longueur d’onde dans le domaine spectral de l’ultraviolet extrême. L’élément optique (1) comporte une zone optiquement active qui est configurée pour réfléchir la lumière qui est incidente sur une surface (2) de la zone optiquement active. L’élément optique réflecteur (1) comprend un bord (4) qui forme au moins une partie d’une délimitation d’une surface sans bord (3) de l’élément optique réflecteur (1), la surface sans bord (3) comprenant la surface (2) de la zone optiquement active. Le bord (4) comprend un profil chanfreiné et/ou arrondi. La présente invention concerne en outre un procédé d’adaptation d’une géométrie d’au moins une zone de surface d’un composant d’un agencement optique, par exemple d’un élément optique réflecteur (1).
(DE) Die Offenbarung bezieht sich auch auf ein reflektives optisches Element (1) zur Reflexion von Licht, welches zumindest eine Wellenlänge in einem EUV- Wellenlängenbereich aufweist. Das optische Element (1) umfasst einen optisch wirksamen Bereich, welcher zur Reflexion des Lichts konfiguriert ist, welches auf eine Oberfläche (2) des optisch wirksamen Bereiches einfällt. Das reflektive optische Element (1) weist eine Kante (4) auf, welche zumindest einen Teil einer Begrenzung einer kantenlosen Oberfläche (3) des reflektiven optischen Elements (1) bildet, wobei die kantenlose Oberfläche (4) die Oberfläche (2) des optisch wirksamen Bereichs aufweist. Die Kante (4) weist eine Fase und/oder eine Abrundung auf. Die Offenbarung bezieht sich auch auf ein Verfahren zum Anpassen einer Geometrie zumindest eines Oberflächenbereichs einer Komponente einer optischen Anordnung, beispielsweise eines reflektiven optischen Elements (1).
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)