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1. (WO2019024857) STRUCTURE DE SEMELLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE TELLE STRUCTURE DE SEMELLE
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N° de publication : WO/2019/024857 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/097897
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 01.08.2018
CIB :
A43B 13/12 (2006.01) ,A43B 13/18 (2006.01) ,A43B 13/14 (2006.01)
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
43
CHAUSSURES
B
ÉLÉMENTS CARACTÉRISTIQUES DES CHAUSSURES; PARTIES CONSTITUTIVES DES CHAUSSURES
13
Semelles; Semelle et talon d'un seul tenant
02
caractérisées par les matériaux
12
Semelles à plusieurs couches de matériaux différents
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
43
CHAUSSURES
B
ÉLÉMENTS CARACTÉRISTIQUES DES CHAUSSURES; PARTIES CONSTITUTIVES DES CHAUSSURES
13
Semelles; Semelle et talon d'un seul tenant
14
caractérisées par leur structure
18
Semelles élastiques
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
43
CHAUSSURES
B
ÉLÉMENTS CARACTÉRISTIQUES DES CHAUSSURES; PARTIES CONSTITUTIVES DES CHAUSSURES
13
Semelles; Semelle et talon d'un seul tenant
14
caractérisées par leur structure
Déposants :
清远广硕技研服务有限公司 QINGYUAN GLOBAL TECHNOLOGY SERVICES LTD. [CN/CN]; 中国广东省清远市 清新区太和工业区 Taihe Industrial Zone, Qingxin County Qingyuan, Guangdong 511800, CN
Inventeurs :
陆一平 LUH, Yih– Ping; CN
Mandataire :
中国商标专利事务所有限公司 CHINA TRADEMARK & PATENT LAW OFFICE CO., LTD.; 中国北京市 西城区月坛南街14号月新大厦 14, Yuetan Nanjie, Yuexin Bldg., Xicheng District Beijing 100045, CN
Données relatives à la priorité :
201710645674.001.08.2017CN
Titre (EN) SOLE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) STRUCTURE DE SEMELLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE TELLE STRUCTURE DE SEMELLE
(ZH) 鞋底结构及其制作方法
Abrégé :
(EN) The present invention provides a sole structure and a method for manufacturing same. The sole structure comprises a low-elasticity layer, a medium-elasticity layer, and a high elasticity layer. A body of the low-elasticity layer has a first surface and a second surface opposite to each other. The body is provided with multiple holes that run through the first surface and the second surface. The low-elasticity layer has an outer side wall surrounding the body and forms a recessed part. The medium-elasticity layer is disposed in the recessed part and attached to the first surface. The high-elasticity layer is disposed in the holes.
(FR) La présente invention a trait à une structure de semelle et à un procédé de fabrication d’une telle structure de semelle. La structure de semelle comprend une couche à faible élasticité, une couche à élasticité moyenne et une couche à élasticité élevée. Le corps de la couche à faible élasticité comprend une première surface et une seconde surface qui sont opposées l'une à l'autre. Le corps est doté de multiples trous qui s'étendent dans la première surface et la seconde surface. La couche à faible élasticité comporte une paroi latérale externe entourant le corps et forme une partie évidée. La couche à élasticité moyenne est disposée dans la partie évidée et fixée à la première surface. La couche à élasticité élevée est disposée dans les trous.
(ZH) 本发明提供一种鞋底结构及其制作方法,鞋底结构包含低弹性层、中弹性层以及高弹性层。低弹性层的本体具有相对的第一面及第二面。本体上形成多个孔洞贯穿第一面及第二面。低弹性层的外侧壁围绕本体并形成凹部。中弹性层设置于凹部中并贴附于第一面。高弹性层填充于孔洞中。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)