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1. (WO2019024547) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE TROUS D'INTERCONNEXION, SUBSTRAT D'AFFICHAGE, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
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N° de publication : WO/2019/024547 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/084484
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 25.04.2018
CIB :
G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G02F 1/1362 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13
basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133
Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
136
Cellules à cristaux liquides associées structurellement avec une couche ou un substrat semi-conducteurs, p.ex. cellules faisant partie d'un circuit intégré
1362
Cellules à adressage par une matrice active
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
合肥鑫晟光电科技有限公司 HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国安徽省合肥市 新站区工业园内 Industrial Park, Xinzhan Hefei, Anhui 230012, CN
Inventeurs :
李伟 LI, Wei; CN
苏同上 SU, Tongshang; CN
李广耀 LI, Guangyao; CN
胡迎宾 HU, Yingbin; CN
马睿 MA, Rui; CN
邵继峰 SHAO, Jifeng; CN
张扬 ZHANG, Yang; CN
张建业 ZHANG, Jianye; CN
Mandataire :
北京市中咨律师事务所 ZHONGZI LAW OFFICE; 中国北京市 西城区平安里西大街26号新时代大厦7层 7F, New Era Building, 26 Pinganli Xidajie, Xicheng District Beijing 100034, CN
Données relatives à la priorité :
201710651692.X02.08.2017CN
Titre (EN) POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, VIA HOLE FORMATION METHOD, DISPLAY SUBSTRATE, AND DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE TROUS D'INTERCONNEXION, SUBSTRAT D'AFFICHAGE, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 正性光刻胶组合物、过孔的形成方法、显示基板及显示装置
Abrégé :
(EN) The present invention provides a positive photoresist composition, comprising a main photoresist material and a photosensitizer. The photoresist composition further comprises a photo-induced heterogeneous compound; under ultraviolet irradiation, the structure of the photo-induced heterogeneous compound is changed to an ion structure with an improved molecular polarity degree. The formation of the ion structure with an improved molecular polarity degree reduces the adhesive force between the positive photoresist and an organic film; this is good for lift-off after a via hole is formed, and the production yield of a product is improved. Furthermore, the present invention further provides a via hole formation method using the positive photoresist composition, a display substrate comprising via holes formed by the via hole formation method, and a display device comprising the display substrate.
(FR) La présente invention se rapporte à une composition de résine photosensible positive qui comprend un matériau de résine photosensible principal et un photosensibilisateur. La composition de résine photosensible inclut en outre un composé hétérogène photo-induit. Lorsqu'elle est exposée à un rayonnement ultraviolet, la structure du composé hétérogène photo-induit est transformée en une structure ionique ayant un degré de polarité moléculaire amélioré. La formation de la structure ionique ayant un degré de polarité moléculaire amélioré réduit la force d'adhérence entre la résine photosensible positive et un film organique. Cela facilite le retrait après qu'un trou d'interconnexion a été formé, et le rendement de production d'un produit s'accroît. En outre, la présente invention a trait à un procédé de formation de trous d'interconnexion utilisant la composition de résine photosensible positive, à un substrat d'affichage comprenant des trous d'interconnexion formés par le procédé de formation de trous d'interconnexion, et à un dispositif d'affichage incluant le substrat d'affichage.
(ZH) 本发明提供一种正性光刻胶组合物,其包含主体胶材和光敏剂,其中所述光刻胶组合物还包含光致异构化合物,该光致异构化合物受到紫外光照射后结构转变为分子极性程度增加的离子结构。该分子极性程度增加的离子结构的形成降低了该正性光刻胶与有机膜层间的附着力,有利于过孔形成后的剥离,提高产品的生产良率。此外,本发明还提供使用所述正性光刻胶组合物的过孔形成方法、包含通过前述过孔形成方法形成的过孔的显示基板及包含前述显示基板的显示装置。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)