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1. (WO2019023890) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE DÉFAUT DE PLAQUE DE MASQUE MÉTALLIQUE ET DISPOSITIF DE FABRICATION
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N° de publication : WO/2019/023890 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/095296
Date de publication : 07.02.2019 Date de dépôt international : 31.07.2017
CIB :
G03F 1/00 (2012.01) ,H01L 21/66 (2006.01) ,H01L 51/56 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
56
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
Déposants :
深圳市柔宇科技有限公司 SHENZHEN ROYOLE TECHNOLOGIES CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 龙岗区横岗街道龙岗大道8288号大运软件小镇43栋 Building #43, Dayun Software Town No. 8288 Longgang Road, Henggang Street Longgang District Shenzhen, Guangdong 518052, CN
Inventeurs :
张耀宇 ZHANG, Yaoyu; CN
王彤 WANG, Tong; CN
康慧 KANG, Hui; CN
Mandataire :
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) TSINGYIHUA INTELLECTUAL PROPERTY LLC; 中国北京市 海淀区清华园清华大学照澜院商业楼301室 Room 301 Trade Building Zhaolanyuan, Tsinghua University Qinghuayuan, Haidian District Beijing 100084, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR DETERMINING METAL MASK PLATE DEFECT AND MANUFACTURING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE DÉFAUT DE PLAQUE DE MASQUE MÉTALLIQUE ET DISPOSITIF DE FABRICATION
(ZH) 金属掩膜板缺陷的判断方法和制造设备
Abrégé :
(EN) A method for determining a metal mask plate (700) defect and a manufacturing device (100) used for determining a metal mask plate (700) defect. The metal mask plate (700) is adapted to be attached to a pixel substrate (800) so as to assist the pixel substrate (800) in forming multiple substrate pixel points (820). The determining method comprises steps of: (S112) obtaining an image of the metal mask plate (700), the image comprising an image pixel point; (S114) in the same reference coordinate system, establishing a position relationship between the image pixel point and the substrate pixel point (820); (S116) testing the substrate pixel point (820) so as to determine whether the substrate pixel point (820) is abnormal, and obtaining the coordinate position of the abnormal substrate pixel point (820); and (S118) determining a defect position of the metal mask plate (700) according to the coordinate position of the abnormal substrate pixel point (820) and the position relationship.
(FR) L'invention concerne un procédé pour déterminer un défaut de plaque de masque métallique (700) et un dispositif de fabrication (100) utilisé pour déterminer un défaut de plaque de masque métallique (700). La plaque de masque métallique (700) est conçue pour être fixée à un substrat de pixels (800) de façon à aider le substrat de pixels (800) à former de multiples points de pixels de substrat (820). Le procédé de détermination comprend les étapes consistant à : (S112) obtenir une image de la plaque de masque métallique (700), l'image comprenant un point de pixel d'image ; (S114) dans le même système de coordonnées de référence, établir une relation de position entre le point de pixel d'image et le point de pixel de substrat (820) ; (S116) tester le point de pixel de substrat (820) de façon à déterminer si le point de pixel de substrat (820) est anormal, et obtenir la position de coordonnées du point de pixel de substrat anormal (820) ; et (S118) déterminer une position de défaut de la plaque de masque métallique (700) en fonction de la position de coordonnées du point de pixel de substrat anormal (820) et de la relation de position.
(ZH) 一种金属掩膜板(700)缺陷的判断方法以及一种用于判断金属掩膜板(700)缺陷的制造设备(100),金属掩膜板(700)用于贴合像素基板(800)以辅助像素基板(800)形成多个基板像素点(820)。判断方法包括步骤:(S112)获取金属掩膜板(700)的图像,图像包括图像像素点;(S114)在同一参考坐标系下,建立图像像素点和基板像素点(820)的位置关系;(S116)测试基板像素点(820)以判断基板像素点(820)是否异常并获取异常的基板像素点(820)的坐标位置;和(S118)根据异常的基板像素点(820)的坐标位置和位置关系确定金属掩膜板(700)的缺陷位置。
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)