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1. (WO2019009316) EMPILEMENT DE FILM MULTICOUCHE
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N° de publication : WO/2019/009316 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/025294
Date de publication : 10.01.2019 Date de dépôt international : 04.07.2018
CIB :
G02B 5/30 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 27/08 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
30
Eléments polarisants
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7
Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches, c. à d. produits comprenant essentiellement des couches ayant des propriétés physiques différentes, ou produits caractérisés par la jonction entre couches
02
en ce qui concerne les propriétés physiques, p.ex. la dureté
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27
Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
06
comme seul composant ou composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique
08
d'une résine synthétique d'une sorte différente
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13
basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133
Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333
Dispositions relatives à la structure
1335
Association structurelle de dispositifs optiques, p.ex. de polariseurs, de réflecteurs, avec la cellule
Déposants :
帝人フィルムソリューション株式会社 TEIJIN FILM SOLUTIONS LIMITED [JP/JP]; 東京都千代田区霞が関三丁目2番1号 2-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000013, JP
Inventeurs :
廣瀬 周 HIROSE Amane; JP
東條 光峰 TOJO Mitsuo; JP
Mandataire :
為山 太郎 TAMEYAMA, Taro; JP
Données relatives à la priorité :
2017-13370307.07.2017JP
Titre (EN) MULTILAYER FILM STACK
(FR) EMPILEMENT DE FILM MULTICOUCHE
(JA) 多層積層フィルム
Abrégé :
(EN) A multilayer film stack includes: a multilayered stack structure wherein a first layer containing a first resin and a second layer containing a second resin are alternately stacked; and a thick film layer in contact with the multilayered stack structure. The multilayered stack structure includes a layer thickness profile that has a repeating unit made up of a single first layer and a single second layer having a physical thickness. The layer thickness profile includes a region of monotonically-increasing thickness and a thin layer region. The thin layer region has at least three repeating units. A ratio L2/L1 is 0.85 or less and a ratio A2/L1 is 0.70 or less where L1 represents the maximum thickness of the repeating units in the region of monotonically-increasing thickness, L2 represents the maximum thickness of the repeating units in the thin layer region, and A2 represents an average thickness in the thin layer region. The thin layer region is located on the thicker portion side of the region of monotonically-increasing thickness to come in contact with the thick film layer.
(FR) La présente invention concerne un empilement de film multicouche qui comprend : une structure d’empilement multicouche dans laquelle une première couche contenant une première résine et une deuxième couche contenant une deuxième résine sont empilées en alternance ; et une couche de film épaisse en contact avec la structure d’empilement multicouche. La structure d’empilement multicouche comprend un profil d’épaisseur de couche qui comporte un motif de répétition constitué d’une première couche unique et d’une deuxième couche unique ayant une épaisseur physique. Le profil d’épaisseur de couche comprend une région d’épaisseur augmentant de façon monotone et une région de couche mince. La région de couche mince comporte au moins trois motifs de répétition. Un rapport L2/L1 est de 0,85 ou moins et un rapport A2/L1 est de 0,70 ou moins, où L1 représente l’épaisseur maximale des motifs de répétition dans la région d’épaisseur augmentant de façon monotone, L2 représente l’épaisseur maximale des motifs de répétition dans la région de couche mince, et A2 représente une épaisseur moyenne dans la région de couche mince. La région de couche mince est située sur le côté de la partie plus épaisse de la région d’épaisseur augmentant de façon monotone de façon à venir en contact avec la couche de film épaisse.
(JA) 第1の樹脂を含む第1層と第2の樹脂を含む第2層とが交互に積層した多層積層構造と、それに接した厚膜層とを有しており、前記多層積層構造は、1つの第1層と1つの第2層とを有する繰返し単位の物理厚みでの層厚みプロファイルを有し、当該層厚みプロファイルは厚み単調増加領域と薄層領域とを有し、前記薄層領域は、少なくとも3つの繰り返し単位を有し、薄層領域における繰り返し単位の最大厚みをL2として、厚み単調増加領域における繰り返し単位の最大厚みL1との比L2/L1が0.85以下であり、且つ、薄層領域の平均厚みをA2として、厚み単調増加領域における繰り返し単位の最大厚みL1との比A2/L1が0.70以下である領域であり、前記薄層領域が厚み単調増加領域の厚みが厚い側にあり、そして厚膜層と接するように存在する、多層積層フィルム。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)