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1. (WO2019009174) DISPOSITIF DE TRAITEMENT À MICRO-ONDES
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N° de publication : WO/2019/009174 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/024538
Date de publication : 10.01.2019 Date de dépôt international : 28.06.2018
CIB :
H05B 6/64 (2006.01) ,H05B 6/74 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
6
Chauffage par champs électriques, magnétiques ou électromagnétiques
64
Chauffage par micro-ondes
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
6
Chauffage par champs électriques, magnétiques ou électromagnétiques
64
Chauffage par micro-ondes
74
Transformateurs de mode ou incitateurs de mode
Déposants :
パナソニック株式会社 PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 大阪府門真市大字門真1006番地 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501, JP
Inventeurs :
吉野 浩二 YOSHINO Koji; --
久保 昌之 KUBO Masayuki; --
橋本 修 HASHIMOTO Osamu; --
須賀 良介 SUGA Ryosuke; --
Mandataire :
徳田 佳昭 TOKUDA Yoshiaki; JP
西田 浩希 NISHIDA Hiroki; JP
Données relatives à la priorité :
2017-13089104.07.2017JP
Titre (EN) MICROWAVE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT À MICRO-ONDES
(JA) マイクロ波処理装置
Abrégé :
(EN) This microwave processing device includes a processing chamber, a microwave supply unit, and a resonance unit. The processing chamber is surrounded by a plurality of wall surfaces and houses an object to be heated. The microwave supply unit supplies microwaves to the processing chamber. The resonance unit is provided on one wall surface of the plurality of wall surfaces and has a resonance frequency in the frequency band of the microwaves. According to this aspect, it is possible to change the impedance on the surface of the resonance unit by controlling a frequency supplied to the processing chamber. By doing so, it is possible to control the standing wave distribution in the processing chamber, i.e., the microwave energy distribution in the processing chamber. As a result, in the case where a plurality of objects to be heated are heated at the same time, it is possible to perform desired dielectric heating on each object to be heated.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de traitement à micro-ondes qui inclut une chambre de traitement, une unité d’injection de micro-ondes, et une unité de résonance. La chambre de traitement est entourée d’une pluralité de surfaces de parois et contient un objet à chauffer. L’unité d’injection de micro-ondes injecte des micro-ondes à la chambre de traitement. L’unité de résonance est disposée sur une surface de paroi de la pluralité de surfaces de parois et a une fréquence de résonance dans la bande de fréquence des micro-ondes. Selon cet aspect, il est possible de changer l’impédance sur la surface de l’unité de résonance en contrôlant une fréquence injectée dans la chambre de traitement. Ce faisant, il est possible de contrôler la répartition d’ondes stationnaires dans la chambre de traitement, c.-à-d. la répartition d’énergie à micro-ondes dans la chambre de traitement. Par conséquent, dans le cas où une pluralité d’objets devant être chauffés sont chauffés en même temps, il est possible de procéder à un chauffage diélectrique souhaité sur chaque objet à chauffer.
(JA) マイクロ波処理装置は、処理室とマイクロ波供給部と共振部とを備える。処理室は、複数の壁面で囲まれ、被加熱物を収容する。マイクロ波供給部は、処理室にマイクロ波を供給する。共振部は、複数の壁面の一つの壁面に設けられ、マイクロ波の周波数帯域において共振周波数を有する。本態様によれば、処理室に供給する周波数を制御することで、共振部の表面のインピーダンスを変化させることができる。これにより、処理室内の定在波分布、すなわち、処理室内のマイクロ波エネルギー分布を制御することができる。その結果、複数の被加熱物を同時に加熱する場合、各被加熱物に所望の誘電加熱を施すことができる。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)