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1. (WO2019006799) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN POLARISEUR À GRILLE DE NANOFILS
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N° de publication : WO/2019/006799 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/095037
Date de publication : 10.01.2019 Date de dépôt international : 28.07.2017
CIB :
G02B 5/30 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
30
Eléments polarisants
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13
basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133
Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333
Dispositions relatives à la structure
1335
Association structurelle de dispositifs optiques, p.ex. de polariseurs, de réflecteurs, avec la cellule
Déposants :
深圳市华星光电技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 光明新区塘明大道9-2号 No.9-2, Tangming Road, Guangming Shenzhen, Guangdong 518132, CN
Inventeurs :
侯俊 HOU, Jun; CN
Mandataire :
深圳市铭粤知识产权代理有限公司 MING & YUE INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; 中国广东省深圳市南山区南山街道前海路泛海城市广场2栋604室 Room 604 Building 2, Oceanwide City Square, Qianhai Road, Nanshan Street, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518066, CN
Données relatives à la priorité :
201710547634.206.07.2017CN
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING NANO WIRE GRID POLARIZER
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN POLARISEUR À GRILLE DE NANOFILS
(ZH) 纳米线栅偏光片的制作方法
Abrégé :
(EN) A method for manufacturing a nano wire grid polarizer comprises the steps of: S1, providing a nanoimprint mold (3) and filling the nanoimprint mold (3) with a photoresist material (21a) to obtain a nanoimprint component; S2, aligning the nanoimprint component to a conductive substrate, curing the photoresist material (21a) on a surface of the conductive substrate, removing the nanoimprint mold (3), and forming nano photoresist arrays (21) on the surface of the conductive substrate, wherein a first gap array is arranged among the nano photoresist arrays (21); S3, depositing metals (13a) in the first gap array using an electro-deposition method, removing the nano photoresist arrays (21) and forming a nano wire grid (13) on the surface of the conductive substrate to obtain the nano wire grid polarizer. The polarizer manufacturing method avoids the etching process, metals of different materials and sizes can be deposited as required, and the growth rate of the metals can be controlled by adjusting an electro-deposition parameter, so that a nano wire grid having a short period and high aspect ratio can be easily obtained with a better polarization effect during application.
(FR) La présente invention a trait à un procédé qui permet de fabriquer un polariseur à grille de nanofils, et qui comprend les étapes suivantes : (S1) l'utilisation d'un moule de nano-impression (3) et le remplissage du moule de nano-impression (3) avec un matériau de résine photosensible (21a) pour obtenir un élément de nano-impression; (S2) l'alignement de l'élément de nano-impression sur un substrat conducteur, le durcissement du matériau de résine photosensible (21a) sur une surface du substrat conducteur, le retrait de ce moule de nano-impression (3), et la formation de nanoréseaux de résine photosensible (21) sur la surface dudit substrat conducteur, un premier réseau d'interstices étant disposé parmi les nanoréseaux de résine photosensible (21); (S3) le dépôt de métaux (13a) dans le premier réseau d'interstices à l'aide d'un procédé d'électrodéposition, le retrait de ces nanoréseaux de résine photosensible (21), et la formation d'une grille de nanofils (13) sur la surface du substrat conducteur pour obtenir le polariseur à grille de nanofils. Le procédé de fabrication de polariseur évite le processus de gravure, des métaux de différents matériaux et de différentes tailles peuvent être déposés si besoin, et la vitesse de croissance des métaux peut être régulée grâce à l'ajustement d'un paramètre d'électrodéposition, de telle sorte qu'une grille de nanofils ayant une courte période et un rapport d'aspect élevé puisse être facilement obtenue avec un meilleur effet de polarisation pendant l'application.
(ZH) 一种纳米线栅偏光片的制作方法,包括步骤:S1、提供一纳米压印模板(3),并采用光阻材料(21a)对纳米压印模板(3)进行填充,获得纳米压印组件;S2、将纳米压印组件与导电衬底对组,使光阻材料(21a)固化于导电衬底的表面上,去除纳米压印模板(3),在导电衬底的表面上形成纳米光阻阵列(21);其中,纳米光阻阵列(21)之间具有第一空隙阵列;S3、采用电沉积法在第一空隙阵列中沉积金属(13a),并去除纳米光阻阵列(21),在导电衬底的表面形成纳米线栅(13),得到纳米线栅偏光片。这种偏光片的制作方法避免了刻蚀过程,可根据需求沉积不同材料、不同尺寸的金属,并且可通过调整电沉积参数来控制金属的生长速度,易于获得短周期、高深宽比的纳米线栅,应用时可获得更好的偏光效果。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)