Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019006102) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE SURVEILLANCE EN TEMPS RÉEL FONDÉE SUR UNE DIFFRACTION DES RAYONS X IN SITU DE PROPRIÉTÉS DE MICROSTRUCTURE D'OBJETS D'IMPRESSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/006102 N° de la demande internationale : PCT/US2018/039969
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 28.06.2018
CIB :
G01N 23/207 (2018.01) ,G01N 23/02 (2006.01) ,G01N 23/205 (2018.01) ,G01N 23/2055 (2018.01) ,G01N 23/223 (2006.01) ,H01Q 15/02 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules) non couvertes par le groupe G01N21/ ou G01N22/183
20
en utilisant la diffraction de la radiation, p.ex. pour rechercher la structure cristalline, en utilisant la réflexion de la radiation
207
par diffractométrie en utilisant des détecteurs, p.ex. en utilisant un cristal d'analyse ou un cristal à analyser en position centrale avec un ou plusieurs détecteurs mobiles disposés circonférentiellement
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules) non couvertes par le groupe G01N21/ ou G01N22/183
02
en transmettant la radiation à travers le matériau
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules) non couvertes par le groupe G01N21/ ou G01N22/183
20
en utilisant la diffraction de la radiation, p.ex. pour rechercher la structure cristalline, en utilisant la réflexion de la radiation
205
au moyen de caméras de diffraction
[IPC code unknown for G01N 23/2055]
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules) non couvertes par le groupe G01N21/ ou G01N22/183
22
en mesurant l'émission secondaire
223
en irradiant l'échantillon avec des rayons X et en mesurant la fluorescence X
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
Q
ANTENNES
15
Dispositifs pour la réflexion, la réfraction, la diffraction ou la polarisation des ondes rayonnées par une antenne, p.ex. dispositifs quasi optiques
02
Dispositifs de réfraction ou diffraction, p.ex. lentille, prisme
Déposants :
UNIVERSITY OF MARYLAND COLLEGE PARK [US/US]; Office of Technology Commercialization 2130 Mitchell Bldg. 7999 Regents Drive College Park, MD 20742, US
ADVANCED ANALYZER LABS, INC. [US/US]; 3982 Old Columbia Pike Ellicott City, MD 20143, US
Inventeurs :
ZAVALIJ, Peter; US
HUANG, Huapeng; US
SCHULTHEIS, Lester, W.; US
Mandataire :
ROSENBERG, Morton, J.; US
KLEIN, David, I.; US
ROSENBERG, Morton, J.; US
Données relatives à la priorité :
62/526,18528.06.2017US
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR IN-SITU X-RAY DIFFRACTION-BASED REAL-TIME MONITORING OF MICROSTRUCTURE PROPERTIES OF PRINTING OBJECTS
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE SURVEILLANCE EN TEMPS RÉEL FONDÉE SUR UNE DIFFRACTION DES RAYONS X IN SITU DE PROPRIÉTÉS DE MICROSTRUCTURE D'OBJETS D'IMPRESSION
Abrégé :
(EN) The system for in-situ real-time measurements of micro structure properties of 3D-printing objects during 3-D printing processes. An intensive parallel X-ray beam (with an adjustable beam size) impinges on a printing object and is diffracted on a crystal lattice of the printing material. The diffracted radiation impinges on a reflector formed with an array of reflector crystals mounted on an arcuated substrate. The diffracted beams reflected from the reflector crystals correspond to the diffraction intensity peaks produced by interaction of the crystal lattice of the printing material with the impinging X-ray beam. The intensities of the diffraction peaks are observed by detectors which produce corresponding output signals, which are processed to provide critical information on the crystal phase composition, which is closely related to the defects and performance of the printing objects. The subject in-situ technology provides an effective and efficient way to monitor, in real-time, the quality of 3D-printing parts during the 3-D printing process, with a significant potential for effective process control based on the reliable micro structure feedback.
(FR) L'invention concerne un système permettant des mesures en temps réel in situ de propriétés de microstructure d'objets d'impression 3D pendant des processus d'impression 3D. Un faisceau de rayons X parallèle intensif (présentant une taille de faisceau réglable) est incident sur un objet d'impression et est diffracté sur un réseau cristallin du matériau d'impression. Le rayonnement diffracté est incident sur un réflecteur formé à l'aide d'un réseau de cristaux de réflecteur montés sur un substrat arqué. Les faisceaux diffractés réfléchis par les cristaux de réflecteur correspondent aux pics d'intensité de diffraction produits par l'interaction du réseau cristallin du matériau d'impression avec le faisceau de rayons X incident. Les intensités des pics de diffraction sont observées par des détecteurs qui produisent des signaux de sortie correspondants qui sont traités afin de fournir des informations critiques sur la composition de phase cristalline, qui est étroitement liée aux défauts et aux performances des objets d'impression. La technologie in situ de l'invention fournit une manière efficace et efficiente de surveillance en temps réel de la qualité de parties d'impression 3D pendant le processus d'impression 3D, ce qui permet de manière significative une commande de processus efficace en fonction de la rétroaction de microstructure fiable.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)