Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019005157) DISPOSITIFS DE MÉMOIRE DE COUPLE DE TRANSFERT DE SPIN PERPENDICULAIRE (PSTTM) À STABILITÉ AMÉLIORÉE ET À TAUX DE MAGNÉTORÉSISTANCE ÉLEVÉE À EFFET TUNNEL, ET LEURS PROCÉDÉS DE FORMATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation
N° de publication : WO/2019/005157 N° de la demande internationale : PCT/US2017/040496
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 30.06.2017
CIB :
H01L 43/10 (2006.01) ,H01L 43/08 (2006.01) ,H01L 43/12 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
43
Dispositifs utilisant les effets galvanomagnétiques ou des effets magnétiques analogues; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
10
Emploi de matériaux spécifiés
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
43
Dispositifs utilisant les effets galvanomagnétiques ou des effets magnétiques analogues; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
08
Résistances commandées par un champ magnétique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
43
Dispositifs utilisant les effets galvanomagnétiques ou des effets magnétiques analogues; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
12
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou le traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
Déposants :
WIEGAND, Christopher J. [US/US]; US
RAHMAN, Tofizur [BD/US]; US
OUELLETTE, Daniel G. [US/US]; US
SMITH, Angeline K. [US/US]; US
BROCKMAN, Justin S. [US/US]; US
O'BRIEN, Kevin P. [US/US]; US
OGUZ, Kaan [TR/US]; US
DOCZY, Mark L. [US/US]; US
DOYLE, Brian S. [IE/US]; US
GOLONZKA, Oleg [US/US]; US
ALZATE VINASCO, Juan G. [CO/US]; US
INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
WIEGAND, Christopher J.; US
RAHMAN, Tofizur; US
OUELLETTE, Daniel G.; US
SMITH, Angeline K.; US
BROCKMAN, Justin S.; US
O'BRIEN, Kevin P.; US
OGUZ, Kaan; US
DOCZY, Mark L.; US
DOYLE, Brian S.; US
GOLONZKA, Oleg; US
ALZATE VINASCO, Juan G.; US
Mandataire :
BRASK, Justin, K.; US
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PERPENDICULAR SPIN TRANSFER TORQUE MEMORY (PSTTM) DEVICES WITH ENHANCED STABILITY AND HIGH TUNNELING MAGNETORESISTANCE RATIO AND METHODS TO FORM THE SAME
(FR) DISPOSITIFS DE MÉMOIRE DE COUPLE DE TRANSFERT DE SPIN PERPENDICULAIRE (PSTTM) À STABILITÉ AMÉLIORÉE ET À TAUX DE MAGNÉTORÉSISTANCE ÉLEVÉE À EFFET TUNNEL, ET LEURS PROCÉDÉS DE FORMATION
Abrégé :
(EN) A memory device includes a bottom electrode disposed above a substrate, a fixed magnet disposed above the bottom electrode, a tunnel barrier including a magnesium oxide disposed on the fixed magnet, a free magnet on the tunnel barrier, a cap oxide layer disposed on the free magnet, a follower magnet disposed on the oxide layer and a metallic cap disposed on the follower magnet. The metallic cap includes a metal such as Hf, W and Ta and further includes a trace amounts of an inert gas. One or more conductive nano-channels extend from the metallic cap through the free magnet and into the oxide layer, where each of the one or more conductive nano-channels include the material of the metallic cap. The memory device further includes an etch stop layer disposed on the metallic cap and a top electrode disposed on the etch stop layer.
(FR) L'invention concerne un dispositif de mémoire qui comprend une électrode inférieure, disposée au-dessus d'un substrat, un aimant fixe, disposé au-dessus de l'électrode inférieure, une barrière tunnel, comprenant un oxyde de magnésium disposé sur l'aimant fixe, un aimant libre sur la barrière tunnel, une couche d'oxyde de couverture, disposée sur l'aimant libre, un aimant suiveur, disposé sur la couche d'oxyde et un capuchon métallique, disposé sur l'aimant suiveur. Le capuchon métallique comprend un métal tel que Hf, W et Ta et comprend en outre des quantités à l'état de trace d'un gaz inerte. Un ou plusieurs nanocanaux conducteurs s'étendent à partir du capuchon métallique à travers l'aimant libre et dans la couche d'oxyde, chacun du ou des nanocanaux conducteurs comprenant le matériau du capuchon métallique. Le dispositif de mémoire comprend en outre une couche d'arrêt de gravure, disposée sur le capuchon métallique, et une électrode supérieure, disposée sur la couche d'arrêt de gravure.
 front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)