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1. (WO2019004767) SUBSTRAT
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N° de publication : WO/2019/004767 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/007390
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 29.06.2018
CIB :
G02F 1/1339 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13
basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133
Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333
Dispositions relatives à la structure
1339
Joints; Eléments d'espacement; Scellement de la cellule
Déposants :
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
Inventeurs :
서한민 SEO, Han Min; KR
황지영 HWANG, Ji Young; KR
송철옥 SONG, Cheol Ock; KR
배남석 BAE, Nam Seok; KR
이승헌 LEE, Seung Heon; KR
오동현 OH, Dong Hyun; KR
유정선 YOU, Jung Sun; KR
Mandataire :
특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM; 서울시 강남구 역삼로 3길 11 광성빌딩 신관 5층 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-008349630.06.2017KR
Titre (EN) SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT
(KO) 기판
Abrégé :
(EN) The present application relates to a substrate on which a spacer having a specific shape is formed, a substrate including an alignment film formed on the spacer, and an optical device using such a substrate. The present application may provide a substrate and the like wherein, even when an alignment film is formed on a spacer formed on a substrate and alignment treatment of the alignment film is performed, the alignment treatment can be uniformly performed by controlling the shape of the spacer, without being affected by the step of the spacer, etc., and thus an optical device having excellent optical performance can be provided.
(FR) La présente invention concerne un substrat sur lequel un matériau tampon présentant une forme spécifique est formé, un substrat comprenant un film d'alignement formé sur le matériau tampon et un dispositif optique utilisant un tel substrat. La présente invention peut fournir un substrat et analogue, pour lequel, même lorsqu'un film d'alignement est formé sur un matériau tampon formé sur un substrat et qu'un traitement d'alignement du film d'alignement est réalisé, le traitement d'alignement peut être réalisé de manière uniforme par commande de la forme du matériau tampon, sans être affecté par l'étape du matériau tampon, etc., et ainsi un dispositif optique présentant d'excellentes performances optiques peut être fourni.
(KO) 본 출원은 특정 형태의 스페이서가 형성되 기판, 상기 스페이서상에 형성된 배향막을 포함하는 기판 및 그러한 기판을 사용한 광학 디바이스에 대한 것이다. 본 출원에서는 기판상에 형성되는 스페이서의 형태를 제어함으로서, 그 상부에 배향막을 형성하고 배향 처리를 하는 경우에도 스페이서의 단차 등에 의한 영향 없이 균일한 배향 처리가 가능하고, 그에 따라 우수한 광학 성능의 광학 디바이스를 제공할 수 있는 기판 등이 제공될 수 있다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)