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1. (WO2019004299) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
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N° de publication : WO/2019/004299 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/024423
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 27.06.2018
CIB :
B05B 1/02 (2006.01) ,B05B 1/10 (2006.01) ,B05B 16/20 (2018.01) ,B05C 15/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
1
Buses, têtes de pulvérisation ou autres dispositifs de sortie, avec ou sans dispositifs auxiliaires tels que valves, moyens de chauffage
02
agencés pour produire un jet, un pulvérisat ou tout autre écoulement de forme ou de nature particulière, p.ex. sous forme de gouttes individuelles
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
1
Buses, têtes de pulvérisation ou autres dispositifs de sortie, avec ou sans dispositifs auxiliaires tels que valves, moyens de chauffage
02
agencés pour produire un jet, un pulvérisat ou tout autre écoulement de forme ou de nature particulière, p.ex. sous forme de gouttes individuelles
10
sous forme d'un jet fin, p.ex. pour lave-glace d'automobiles
[IPC code unknown for B05B 16/20]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
C
APPAREILLAGES POUR L'APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
15
Enceintes pour les appareils; Cabines
Déposants :
株式会社シンクロン SHINCRON CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市西区みなとみらい四丁目3番5号 3-5, Minatomirai 4-chome, Nishi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2208680, JP
Inventeurs :
長江 亦周 NAGAE, Ekishu; JP
高坂 佳弘 TAKASAKA, Yoshihiro; JP
青山 貴昭 AOYAMA, Takaaki; JP
遠藤 光人 ENDO, Mitsuhito; JP
Mandataire :
とこしえ特許業務法人 TOKOSHIE PATENT FIRM; 東京都新宿区西新宿7丁目22番27号 西新宿KNビル Nishishinjuku KN Bldg., 22-27, Nishishinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
Données relatives à la priorité :
201710524216.130.06.2017CN
Titre (EN) FILM FORMING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
Abrégé :
(EN) The present invention discloses a film forming device comprising: a container capable of storing a substrate therein; an exhaust mechanism capable of exhausting the inside of the container to a vacuum state; a storage mechanism that stores a solution; a nozzle capable of discharging the solution onto the substrate; and a heating mechanism capable of heating the nozzle and/or the inside of the container. This film forming device makes it possible to reduce or remove liquid traces formed during film forming on the substrate.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de formation de film comprenant : un récipient en mesure de stocker un substrat en son sein ; un mécanisme d'échappement en mesure d'évacuer l'intérieur du récipient vers un état de vide ; un mécanisme de stockage qui stocke une solution ; une buse en mesure de déverser la solution sur le substrat ; et un mécanisme de chauffage en mesure de chauffer la buse et/ou l'intérieur du récipient. Ce dispositif de formation de film permet de réduire ou d'éliminer les traces de liquide formées pendant la formation de film sur le substrat.
(JA) 本発明は、内部に基板を収納可能な容器、前記容器の内部を真空状態に排気できる排気機構、溶液を貯蔵する貯蔵機構、前記溶液を前記基板に排出可能なノズル、及び前記ノズル及び/又は前記容器内部を加熱できる加熱機構と、を備える成膜装置を開示する。本発明により提供された成膜装置により、基板が成膜中に形成した液跡を減少又は除去することができる。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)