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1. (WO2019003827) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM, CADRE DE MASQUE ET PROCÉDÉ D’ALIGNEMENT
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N° de publication : WO/2019/003827 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/021552
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 05.06.2018
CIB :
C23C 14/54 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
54
Commande ou régulation du processus de revêtement
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
04
Revêtement de parties déterminées de la surface, p.ex. au moyen de masques
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
10
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources de lumière électroluminescentes
Déposants :
株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ケ崎市萩園2500 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
Inventeurs :
高橋 誠 TAKAHASHI Makoto; JP
清水 豪 SHIMIZU Tsuyoshi; JP
吉田 大介 YOSHIDA Daisuke; JP
湯山 明 YUYAMA Akira; JP
佐藤 雄亮 SATOU Yusuke; JP
Mandataire :
及川 周 OIKAWA Shu; JP
勝俣 智夫 KATSUMATA Tomoo; JP
土屋 亮 TSUCHIYA Ryo; JP
Données relatives à la priorité :
2017-12946630.06.2017JP
Titre (EN) FILM FORMING DEVICE, MASK FRAME, AND ALIGNMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM, CADRE DE MASQUE ET PROCÉDÉ D’ALIGNEMENT
(JA) 成膜装置、マスクフレーム、アライメント方法
Abrégé :
(EN) This film forming device has a mask alignment means for aligning substantially perpendicularly retained mask frame with respect to a substrate for film formation in a chamber, the mask alignment means having engaging parts provided at both ends of a bottom surface of the mask frame, supporting alignment parts provided to lower parts of both ends in a film formation position of the mask frame and configured so as to be capable of supporting the mask frame and capable of alignment by engaging with the engaging parts, and an upper-part alignment part in which the position thereof on a top side of the mask frame can be set in the direction orthogonal to the plane of the mask frame and whereby the mask frame can be supported and released, and the mask alignment means making it possible for the mask frame to be aligned with six degrees of freedom including three axial directions and three rotation directions about the axes of the three axial directions, the axial directions being two directions parallel to the plane of the mask frame and an orthogonal direction orthogonal to the plane of the mask frame.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de formation de film qui comporte un moyen d’alignement de masque pour aligner sensiblement un cadre de masque retenu perpendiculairement à un substrat pour la formation de film dans une chambre, le moyen d’alignement de masque comportant des parties de mise en prise disposées aux deux extrémités d’une surface inférieure du cadre de masque, des parties d’alignement de support disposées sur des parties inférieures des deux extrémités dans une position de formation de film du cadre de masque et configurées de façon à pouvoir soutenir le cadre de masque et capables d’alignement par mise en prise avec les parties de mise en prise, et une partie d’alignement de partie supérieure dans laquelle la position de celle-ci sur un côté supérieur du cadre de masque peut être ajustée dans la direction orthogonale au plan du cadre de masque et de sorte que le cadre de masque puisse être soutenu et libéré, et le moyen d’alignement de masque permettant que le cadre de masque soit aligné avec six degrés de liberté comprenant trois directions axiales et trois directions de rotation autour des axes des trois directions axiales, les directions axiales étant deux directions parallèles au plan du cadre de masque et une direction orthogonale qui est orthogonale au plan du cadre de masque.
(JA) 本発明の成膜装置は、チャンバ内で成膜する基板に対し、略垂直保持されたマスクフレームをアライメントするマスクアライメント手段を有し、前記マスクアライメント手段が、前記マスクフレームの下面における両端に設けられた係合部と、前記マスクフレームの成膜位置における両端の下部に設けられて前記マスクフレームを支持可能とされるとともに前記係合部に係合してアライメント可能とされる支持アライメント部と、前記マスクフレームの上側の位置を、前記マスクフレームの面に直交する方向に設定可能として、前記マスクフレームを支持及び解放可能な上部アライメント部と、を有し、前記マスクアライメント手段によって、前記マスクフレームの前記面に平行な2方向及び前記マスクフレームの前記面に直交する直交方向の3つの軸方向と、前記3つの軸方向の軸線周りの3つの回転方向とによる6自由度にて、前記マスクフレームがアライメント可能とされる。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)