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1. (WO2019003503) FILM À DIFFÉRENCE DE PHASE, PLAQUE À POLARISATION CIRCULAIRE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM À DIFFÉRENCE DE PHASE
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N° de publication : WO/2019/003503 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/009158
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 09.03.2018
CIB :
G02B 5/30 (2006.01) ,B29C 55/06 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,B29L 7/00 (2006.01) ,B29L 11/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
30
Eléments polarisants
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
55
Façonnage par étirage, p.ex. étirage à travers une matrice; Appareils à cet effet
02
de plaques ou de feuilles
04
suivant un seul axe, p.ex. étirage oblique
06
parallèle à la direction d'alimentation
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
02
Détails
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
L
SCHÉMA D'INDEXATION ASSOCIÉ À LA SOUS-CLASSE B29C63
7
Objets plats, p.ex. pellicules ou feuilles
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
L
SCHÉMA D'INDEXATION ASSOCIÉ À LA SOUS-CLASSE B29C63
11
Eléments optiques, p.ex. lentilles, prismes
Déposants :
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
Inventeurs :
鈴木 暢 SUZUKI Mitsuru; JP
角村 浩 SUMIMURA Hiroshi; JP
高松 秀行 TAKAMATSU Hideyuki; JP
清水 享 SHIMIZU Takashi; JP
柳沼 寛教 YAGINUMA Hironori; JP
友久 寛 TOMOHISA Hiroshi; JP
Mandataire :
籾井 孝文 MOMII Takafumi; JP
Données relatives à la priorité :
2017-12660828.06.2017JP
Titre (EN) PHASE DIFFERENCE FILM, CIRCULARLY POLARIZING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE DIFFERENCE FILM
(FR) FILM À DIFFÉRENCE DE PHASE, PLAQUE À POLARISATION CIRCULAIRE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM À DIFFÉRENCE DE PHASE
(JA) 位相差フィルム、円偏光板、および位相差フィルムの製造方法
Abrégé :
(EN) The present invention provides a phase difference film capable of minimizing a change in a phase difference value under high temperature and high humidity environment. A manufacturing method according to the present invention is used to produce a phase difference film with an in-plane retardation that satisfies the relationship of Re(450) < Re(550). The manufacturing method includes a heat treatment step of heating a stretched film for two minutes or longer at a temperature of 105°C or higher, the stretched film exhibiting a shrinkage of 0.4% or less along the slow axis in the TMA of heating which repeats the cycle of heating and cooling the stretched film between 30°C and Tg - 25°C three times or the stretched film exhibiting a shrinkage of 0.7% or less along the slow axis in the TMA of humidification which changes the environment in order of 25°C/25%RH, 85°C/2%RH, 85°C/85%RH, and 85°C/2%RH.
(FR) La présente invention concerne un film à différence de phase capable de minimiser la modification d'une valeur de différence de phase dans un environnement à haute température et humidité élevée. Un procédé de fabrication selon la présente invention est utilisé pour produire un film à différence de phase présentant un retard dans le plan qui satisfait la relation Re(450) < Re(550). Le procédé de fabrication comprend une étape de traitement thermique consistant à chauffer un film étiré pendant au moins deux minutes à une température d'au moins 105 °C, le film étiré présentant un rétrécissement de 0,4 % ou moins le long de l'axe lent dans l'ATM de chauffage qui répète le cycle de chauffage et de refroidissement du film étiré entre 30 °C et Tg - 25 °C trois fois ou le film étiré présentant un rétrécissement de 0,7 % ou moins le long de l'axe lent dans l'ATM d'humidification qui modifie l'environnement dans l'ordre de 25 °C/25 % RH, 85 °C/2 % RH, 85 °C/85 % RH, et 85 °C/2 % RH.
(JA) 高温高湿環境下での位相差値の変化を抑制し得る位相差フィルムを提供する。本発明の製造方法は、面内位相差がRe(450)<Re(550)の関係を満たす位相差フィルムを得る製造方法であって、30℃からTg-25℃まで昇温して再度30℃に冷却することを3サイクル繰り返す加熱TMA試験において遅相軸方向の収縮率が0.4%以下であるか、または、25℃/25%RH、85℃/2%RH、85℃/85%RH、85℃/2%RHの順に環境を変化させる加湿TMA試験において遅相軸方向の収縮率が0.7%以下である延伸フィルムを、105℃以上の温度で2分間以上加熱する加熱処理工程を含む。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)