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1. (WO2019003484) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE LIQUIDE
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N° de publication : WO/2019/003484 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/003366
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 01.02.2018
CIB :
C02F 1/48 (2006.01) ,B01F 3/04 (2006.01) ,B01F 5/00 (2006.01) ,B01F 5/06 (2006.01) ,H05H 1/24 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
02
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
F
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1
Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
48
au moyen de champs magnétiques ou électriques
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
F
MÉLANGE, p.ex. DISSOLUTION, ÉMULSION, DISPERSION
3
Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger
04
de gaz ou de vapeurs avec des liquides
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
F
MÉLANGE, p.ex. DISSOLUTION, ÉMULSION, DISPERSION
5
Mélangeurs à écoulement; Mélangeurs pour matériaux tombants, p.ex. particules solides
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
F
MÉLANGE, p.ex. DISSOLUTION, ÉMULSION, DISPERSION
5
Mélangeurs à écoulement; Mélangeurs pour matériaux tombants, p.ex. particules solides
06
Mélangeurs dans lesquels les composants du mélange sont pressés ensemble au travers de fentes, d'orifices, ou de tamis
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
Déposants :
パナソニックIPマネジメント株式会社 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区城見2丁目1番61号 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207, JP
Inventeurs :
三宅 岳 MIYAKE Gaku; --
山田 芳生 YAMADA Yoshio; --
松田 源一郎 MATSUDA Genichiro; --
北井 崇博 KITAI Takahiro; --
Mandataire :
鎌田 健司 KAMATA Kenji; JP
前田 浩夫 MAEDA Hiroo; JP
Données relatives à la priorité :
2017-12402426.06.2017JP
Titre (EN) LIQUID TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE LIQUIDE
(JA) 液体処理装置
Abrégé :
(EN) This liquid treatment device comprises a treatment tank for swirling an introduced liquid to thereby generate a gas phase in the swirling flow of the liquid, and the device treats the liquid by applying a pulse voltage to the generated gas phase and generating plasma, wherein an insulator, which is an insulating space forming member, is disposed on a wall surface at one end of the treatment tank so as not to affect the swirling flow, and a first electrode is disposed facing a space connected via a through hole of the insulator.
(FR) Le dispositif de traitement de liquide selon l'invention comprend un réservoir de traitement servant à faire tourbillonner un liquide introduit pour ainsi générer une phase gazeuse dans l'écoulement turbulent du liquide, le dispositif traitant le liquide par application d'une tension d'impulsion à la phase gazeuse générée et par génération d'un plasma, un isolant, qui est un élément formant un espace isolant, étant disposé sur une surface de paroi au niveau d'une extrémité du réservoir de traitement de façon à ne pas avoir d'incidence sur le flux turbulent, et une première électrode étant disposée en regard d'un espace relié par l'intermédiaire d'un trou traversant de l'isolant.
(JA) 導入された液体を旋回させることにより、液体の旋回流中に気相を発生させる処理槽を備え、発生させた気相にパルス電圧を印加してプラズマを発生させることで液体を処理する装置であって、旋回流に影響を与えないように処理槽の一端の壁面に絶縁性の空間形成部材である絶縁体を配置し、絶縁体の貫通穴を介して連結された空間に面して、第1電極を配置する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)