Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019002014) DISPOSITIF DE TRANSPORT D'UN SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DOTÉ D'UNE PLAQUE DE RÉCEPTION ADAPTÉE À UN SUPPORT DE SUBSTRAT D'UN TEL DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT À L'AIDE D'UN TEL DISPOSITIF DE TRANSPORT D'UN SUBSTRAT AINSI QU'INSTALLATION DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/002014 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/066192
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 19.06.2018
CIB :
H01L 21/673 (2006.01) ,H01L 21/687 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,C23C 16/509 (2006.01) ,C23C 16/458 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
673
utilisant des supports spécialement adaptés
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683
pour le maintien ou la préhension
687
en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44
caractérisé par le procédé de revêtement
50
au moyen de décharges électriques
505
utilisant des décharges à radiofréquence
509
utilisant des électrodes internes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44
caractérisé par le procédé de revêtement
458
caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Déposants :
MEYER BURGER (GERMANY) GMBH [DE/DE]; An der Baumschule 6 - 8 09337 Hohenstein-Ernstthal, DE
Inventeurs :
SCHLEMM, Hermann; DE
KEHR, Mirko; DE
ANSORGE, Erik; DE
RASCHKE, Sebastian; DE
Mandataire :
KAILUWEIT & UHLEMANN PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFT MBB; Bamberger Straße 49 01187 Dresden, DE
Données relatives à la priorité :
17178276.628.06.2017EP
Titre (EN) DEVICE FOR TRANSPORTING A SUBSTRATE, TREATMENT DEVICE WITH A RECEIVING PLATE ADAPTED TO A SUBSTRATE CARRIER OF A DEVICE OF THIS KIND, AND METHOD FOR PROCESSING A SUBSTRATE USING A DEVICE OF THIS KIND FOR THE TRANSPORT OF A SUBSTRATE, AND TREATMENT FACILITY
(FR) DISPOSITIF DE TRANSPORT D'UN SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DOTÉ D'UNE PLAQUE DE RÉCEPTION ADAPTÉE À UN SUPPORT DE SUBSTRAT D'UN TEL DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT À L'AIDE D'UN TEL DISPOSITIF DE TRANSPORT D'UN SUBSTRAT AINSI QU'INSTALLATION DE TRAITEMENT
(DE) VORRICHTUNG ZUM TRANSPORT EINES SUBSTRATS, BEHANDLUNGSVORRICHTUNG MIT EINER AN EINEN SUBSTRATTRÄGER EINER SOLCHEN VORRICHTUNG ANGEPASSTEN AUFNAHMEPLATTE UND VERFAHREN ZUM PROZESSIEREN EINES SUBSTRATES UNTER NUTZUNG EINER SOLCHEN VORRICHTUNG ZUM TRANSPORT EINES SUBSTRATS SOWIE BEHANDLUNGSANLAGE
Abrégé :
(EN) The invention relates to a device for transporting a substrate into or away from a treatment device, a treatment device, a method for processing a substrate and a treatment facility with a movement arrangement for moving a device of this kind for transporting a substrate. The device for transporting a substrate comprises a substrate carrier which contains a horizontally extending retaining surface and one or more grippers. The retaining surface is even and uniform on a first surface facing the substrate and the form thereof substantially corresponds to the form of the substrate. The surface thereof is substantially the same as the surface of the substrate, wherein the substrate is retained by its rear side on the retaining surface only by its weight. The treatment device has a receiving plate on which the substrate is retained during the treatment, wherein the receiving plate has a depression in a first surface which is suitable for accommodating a substrate carrier of this kind during treatment of the substrate.
(FR) L'invention concerne un dispositif de transport d'un substrat dans un dispositif de traitement vers ou à partir dudit dispositif de traitement, un procédé de traitement d'un substrat et une installation de traitement dotée d'un ensemble de déplacement destiné à déplacer un tel dispositif de transport d'un substrat. Selon l'invention, le dispositif de transport d'un substrat comporte un support de substrat, qui comprend une surface de retenue s'étendant horizontalement et un ou une pluralité de bras de préhension. La surface de retenue est formée plane et uniforme sur une première surface supérieure tournée vers le substrat, dont la forme correspond sensiblement à la forme du substrat et dont la surface est sensiblement égale à la surface du substrat, le substrat étant maintenu seulement à l'aide de son poids par sa face arrière sur la surface de retenue. Le dispositif de traitement comporte une plaque de réception sur laquelle le substrat est maintenu lors du traitement, la plaque de réception comportant, dans une première surface, un évidement, qui est conçu pour recevoir un tel support de substrat lors du traitement du substrat.
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Transport eines Substrates in eine Behandlungsvorrichtung hinein oder aus dieser heraus, eine Behandlungsvorrichtung, ein Verfahren zum Prozessieren eines Substrates und eine Behandlungsanlage mit einer Bewegungsanordnung zum Bewegen einer derartigen Vorrichtung zum Transport eines Substrates. Dabei weist die Vorrichtung zum Transport eines Substrates einen Substratträger auf, der eine sich horizontal erstreckende Haltefläche und einen oder mehrere Greifarme enthält. Die Haltefläche ist auf einer dem Substrat zugewandten ersten Oberfläche eben und gleichförmig ausgebildet, deren Form im Wesentlichen der Form des Substrates entspricht und deren Fläche im Wesentlichen gleich der Fläche des Substrates ist, wobei das Substrat nur durch seine Gewichtskraft mit seiner Rückseite auf der Haltefläche gehalten wird. Die Behandlungsvorrichtung weist eine Aufnahmeplatte auf, auf der das Substrat während der Behandlung gehaltert wird, wobei die Aufnahmeplatte in einer ersten Oberfläche eine Vertiefung aufweist, die geeignet ist, einen derartigen Substratträger während der Behandlung des Substrates aufzunehmen.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)