Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019001264) DISPOSITIF DE LAVAGE PAR ONDES ULTRASONORES ET MACHINE À LAVER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/001264 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/090789
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 12.06.2018
CIB :
B08B 3/12 (2006.01) ,D06F 19/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08
NETTOYAGE
B
NETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
3
Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau
04
Nettoyage impliquant le contact avec un liquide
10
avec traitement supplémentaire du liquide ou de l'objet en cours de nettoyage, p.ex. par la chaleur, par l'électricité, par des vibrations
12
par des vibrations soniques ou ultrasoniques
D TEXTILES; PAPIER
06
TRAITEMENT DES TEXTILES OU SIMILAIRES; BLANCHISSAGE; MATÉRIAUX FLEXIBLES NON PRÉVUS AILLEURS
F
BLANCHISSAGE, SÉCHAGE, REPASSAGE, PRESSAGE OU PLIAGE D'ARTICLES TEXTILES
19
Machines à laver utilisant des vibrations pour le lavage
Déposants :
青岛海尔洗衣机有限公司 QINGDAO HAIER WASHING MACHINE CO., LTD. [CN/CN]; 中国山东省青岛市 高新区海尔路1号 No.1 Haier Road, Hi-Tech Zone Qingdao, Shandong 266101, CN
AQUA株式会社 AQUA CO., LTD [JP/JP]; 日本东京都 千代田区丸之内2-1-1 2-1-1, Marunouchi, Chiyoda-ku Tokyo 100-0005, JP
Inventeurs :
鸢幸生 TOBI, Yukio; JP
川上直也 KAWAKAMI, Naoya; JP
川端睦美 KAWABATA, Mutsumi; JP
竹村唯 TAKEMURA, Yui; JP
国谷尚子 KUNIYA, Nahoko; JP
内藤正浩 NAITO, Masahiro; JP
Mandataire :
北京品源专利代理有限公司 BEYOND ATTORNEYS AT LAW; 中国北京市 海淀区莲花池东路39号西金大厦6层 F6, Xijin Centre 39 Lianhuachi East Rd., Haidian District Beijing 100036, CN
Données relatives à la priorité :
2017-12800929.06.2017JP
Titre (EN) ULTRASONIC WAVE CLEANING DEVICE AND WASHING MACHINE
(FR) DISPOSITIF DE LAVAGE PAR ONDES ULTRASONORES ET MACHINE À LAVER
(ZH) 超声波清洗装置以及洗衣机
Abrégé :
(EN) Provided is an ultrasonic wave cleaning device capable of improving cleaning performance. An ultrasonic wave cleaning device (50) is provided with: an ultrasonic wave generation body (110) for generating ultrasonic waves; a water storage tank (300) configured below the ultrasonic wave generation body (110) and storing water for immersing items to be cleaned; and a shell (130) for accommodating the ultrasonic wave generation body (110) in such a manner that a top end thereof faces the water storage tank (300). The shell (130) includes two support rods (134) which extend below a top end of the ultrasonic wave generation body (110) and do not move upwards with respect to the ultrasonic wave generation body (110) even if the items to be cleaned are pressed.
(FR) L'invention concerne un dispositif de lavage par ondes ultrasonores capable d'améliorer les performances de lavage. Un dispositif de lavage par ondes ultrasonores (50) comprend : un corps de génération d'ondes ultrasonores (110) pour générer des ondes ultrasonores; un réservoir de stockage d'eau (300) configuré sous le corps de génération d'ondes ultrasonores (110) et stockant de l'eau pour immerger des articles à nettoyer; et une coque (130) pour recevoir le corps de génération d'ondes ultrasonores (110) de telle sorte qu'une extrémité supérieure de celle-ci fasse face au réservoir de stockage d'eau (300). La coque (130) comprend deux tiges de support (134) qui s'étendent au-dessous d'une extrémité supérieure du corps de génération d'ondes ultrasonores (110) et ne se déplacent pas vers le haut par rapport au corps de génération d'ondes ultrasonores (110) même si les articles à nettoyer sont pressés.
(ZH) 本发明提供一种能够提高清洗性能的超声波清洗装置。超声波清洗装置(50)具备:超声波产生体(110),产生超声波;蓄水槽(300),配置于超声波产生体(110)的下方,并蓄积浸渍被清洗物的水;以及壳体(130),以其顶端面向蓄水槽(300)的方式容纳超声波产生体(110)。壳体(130)包含伸出至超声波产生体(110)的顶端的下方且即使被清洗物被按压也不会相对于超声波产生体(110)向上方移动的两个支撑杆(134)。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)