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1. (WO2019001232) DISPOSITIF DE CUISSON ET SON PROCÉDÉ DE COMMANDE DE CUISSON
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N° de publication : WO/2019/001232 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/089986
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 05.06.2018
CIB :
A47J 27/00 (2006.01)
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
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AMEUBLEMENT; ARTICLES OU APPAREILS MÉNAGERS; MOULINS À CAFÉ; MOULINS À ÉPICES; ASPIRATEURS EN GÉNÉRAL
J
MATÉRIEL DE CUISINE; MOULINS À CAFÉ; MOULINS À ÉPICES; APPAREILS À PRÉPARER LES BOISSONS
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Récipients de cuisson
Déposants :
佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司 FOSHAN SHUNDE MIDEA ELECTRICAL HEATING APPLIANCES MANUFACTURING CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省佛山市 顺德区北滘镇三乐东路19号 San Le Road #19, Beijiao, Shunde Foshan, Guangdong 528311, CN
Inventeurs :
刘化勇 LIU, Huayong; CN
罗飞龙 LUO, Feilong; CN
黄韦铭 HUANG, Weiming; CN
梁志佳 LIANG, Zhijia; CN
马利 MA, Li; CN
瞿月红 QU, Yuehong; CN
Mandataire :
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) TSINGYIHUA INTELLECTUAL PROPERTY LLC; 中国北京市 海淀区清华园清华大学照澜院商业楼301室 Room 301 Trade Building, Zhaolanyuan, Tsinghua University, Qinghuayuan, Haidian District Beijing 100084, CN
Données relatives à la priorité :
201710514792.829.06.2017CN
Titre (EN) COOKING DEVICE AND COOKING CONTROL METHOD THEREOF
(FR) DISPOSITIF DE CUISSON ET SON PROCÉDÉ DE COMMANDE DE CUISSON
(ZH) 烹饪器具及其烹饪控制方法
Abrégé :
(EN) Disclosed are a cooking device and a cooking control method thereof. The cooking device comprises a pot body, a cover, a negative pressure means, and a positive pressure means. The cooking control method comprises the following steps: determining a current cooking stage of the cooking device during a cooking process of the cooking device, wherein cooking stages of the cooking device comprises a heating stage, a boiling stage, and a stewing stage; and when the cooking device is in the heating stage, controlling the pressure in a cooking chamber to vary between a first pressure and a second pressure by controlling the negative pressure means and the positive pressure means, so as to produce a bumping phenomenon in the cooking chamber.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de cuisson et son procédé de commande de cuisson. Le dispositif de cuisson comprend un corps de récipient, un couvercle, un moyen de pression négative et un moyen de pression positive. Le procédé de commande de cuisson comprend les étapes suivantes consistant : à déterminer une étape de cuisson actuelle du dispositif de cuisson pendant un processus de cuisson du dispositif de cuisson, les étapes de cuisson du dispositif de cuisson comprenant une étape de chauffage, une étape d'ébullition et une étape de cuisson à l'étuvée ; et lorsque le dispositif de cuisson est à l'étape de chauffage, à réguler la pression dans une chambre de cuisson de façon à ce qu'elle varie entre une première pression et une seconde pression par commande du moyen de pression négative et du moyen de pression positive, de manière à produire un phénomène de bouillonnement dans la chambre de cuisson.
(ZH) 本申请公开了一种烹饪器具及其烹饪控制方法,其中,烹饪器具包括锅体、盖体、负压装置和正压装置,该烹饪控制方法包括以下步骤:在所述烹饪器具的烹饪过程中,判断所述烹饪器具当前所处的烹饪阶段,其中,所述烹饪器具的烹饪阶段包括加热阶段、沸腾阶段和焖饭阶段;当所述烹饪器具处于所述加热阶段时,通过控制所述负压装置和所述正压装置以控制所述烹饪腔内的压力在第一压力与第二压力之间进行变化,以使所述烹饪腔内产生崩沸现象。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)