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1. (WO2019000216) DISPOSITIF DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT
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N° de publication : WO/2019/000216 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/090298
Date de publication : 03.01.2019 Date de dépôt international : 27.06.2017
CIB :
H01L 21/67 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Déposants :
深圳市柔宇科技有限公司 SHENZHEN ROYOLE TECHNOLOGIES CO., LTD [CN/CN]; 中国广东省深圳市 龙岗区横岗街道龙岗大道8288号大运软件小镇43栋 Building #43, Dayun Software Town, No.8288 Longgang Road, Henggang Street, Longgang District Shenzhen, Guangdong 518115, CN
Inventeurs :
徐顺龙 XU, Shunlong; CN
谢忠伟 XIE, Zhongwei; CN
Mandataire :
广州三环专利商标代理有限公司 SCIHEAD IP LAW FIRM; 中国广东省广州市 越秀区先烈中路80号汇华商贸大厦1508室 Room 1508, Huihua Commercial & Trade Building No. 80, XianLie Zhong Road,Yuexiu District Guangzhou, Guangdong 510070, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SUBSTRATE CLEANING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT
(ZH) 基板清洗装置
Abrégé :
(EN) Provided is a substrate cleaning device (10), comprising a UV cleaning chamber (11), a water circulation cleaning device (17), and a water carrying container (15). The UV cleaning chamber (11) is used to perform UV cleaning on a substrate (100), and accommodate ozone generated during the UV cleaning process. The UV cleaning chamber (11) is in communication with the water carrying container (15), such that the ozone can be directed into the water carrying container (15) so as to sterilize water in the water carrying container (15). The water in the water carrying container (15) flows into the water circulation cleaning device (17) to facilitate the water circulation cleaning device (17) cleaning the substrate (100) with water. The excess ozone generated in the UV cleaning chamber is directed into the water carrying container to sterilize the water in the carrying container, and ensure that water used in the water circulation cleaning device is clean, thereby guaranteeing clean substrates. Moreover, effective utilization of excess ozone avoids pollution caused by direct emission of the excess ozone.
(FR) L'invention concerne un dispositif de nettoyage de substrat (10) comprenant une chambre de nettoyage UV (11), un dispositif de nettoyage à circulation d'eau (17) et un récipient de transport d'eau (15). La chambre de nettoyage UV (11) est utilisée pour réaliser un nettoyage UV sur un substrat (100) et recevoir l'ozone généré pendant le processus de nettoyage UV. La chambre de nettoyage UV (11) est en communication avec le récipient de transport d'eau (15) de sorte que l'ozone peut être dirigé dans le récipient de transport d'eau (15) de manière à stériliser l'eau dans le récipient de transport d'eau (15). L'eau dans le récipient de transport d'eau (15) s'écoule dans le dispositif de nettoyage à circulation d'eau (17) pour faciliter le nettoyage par le dispositif de nettoyage à circulation d'eau (17) du substrat (100) avec de l'eau. L'ozone excédentaire généré dans la chambre de nettoyage UV est dirigé dans le récipient de transport d'eau pour stériliser l'eau dans le récipient de transport et garantir que l'eau utilisée dans le dispositif de nettoyage à circulation d'eau est propre, ce qui permet de garantir la propreté des substrats. De plus, l'utilisation efficace d'ozone excédentaire évite la pollution provoquée par une émission directe de l'ozone excédentaire.
(ZH) 提供了一种基板清洗装置(10),包括光清洗室(11)、循环水清洗装置(17)及载水容器(15);光清洗室(11)用于对基板(100)进行光清洗,并容纳在光清洗的过程中生成的臭氧,光清洗室(11)与载水容器(15)连通,使得臭氧能够导入载水容器(15),以对载水容器(15)内的水进行杀菌消毒;载水容器(15)内的水能够流入循环水清洗装置(17),以供循环水清洗装置(17)对基板(100)进行水清洗。通过将光清洗室内生成的多余臭氧导入载水容器,对载水容器进行杀菌消毒,保证了循环水清洗装置所用的水干净清洁,从而能够确保基板的洁净无菌;并且,也对多余的臭氧进行了有效利用,避免了多余臭氧直接排出造成的污染。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)