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1. (WO2018235549) COMPOSITION, FILM, LENTILLE, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, ET COMPOSÉ
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N° de publication : WO/2018/235549 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/020669
Date de publication : 27.12.2018 Date de dépôt international : 30.05.2018
CIB :
C08K 5/3492 (2006.01) ,C07D 251/46 (2006.01) ,C07D 251/70 (2006.01) ,C07D 417/14 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,C08F 20/34 (2006.01) ,C08F 265/04 (2006.01) ,C08J 5/18 (2006.01) ,G02B 1/04 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
5
Emploi d'ingrédients organiques
16
Composés contenant de l'azote
34
Composés hétérocycliques comportant de l'azote dans le cycle
3467
comportant plus de deux atomes d'azote dans le cycle
3477
Cycles à six chaînons
3492
Triazines
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
251
Composés hétérocycliques contenant des cycles triazine-1, 3, 5
02
non condensés avec d'autres cycles
12
comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
26
avec uniquement des hétéro-atomes liés directement aux atomes de carbone du cycle
40
Atomes d'azote
42
Un atome d'azote
46
avec des atomes d'oxygène ou de soufre liés aux deux autres atomes de carbone du cycle
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
251
Composés hétérocycliques contenant des cycles triazine-1, 3, 5
02
non condensés avec d'autres cycles
12
comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
26
avec uniquement des hétéro-atomes liés directement aux atomes de carbone du cycle
40
Atomes d'azote
54
Trois atomes d'azote
70
Autres mélamines substituées
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
417
Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre et d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe C07D415/211
14
contenant au moins trois hétérocycles
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
44
Polymérisation en présence d'additifs, p.ex. plastifiants, matières colorantes, charges
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
46
Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
48
par la lumière ultraviolette ou visible
50
avec des agents sensibilisants
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
20
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
34
Esters contenant de l'azote
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
265
Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères d'acides monocarboxyliques non saturés ou de leurs dérivés tels que définis dans le groupe C08F20/204
04
sur des polymères d'esters
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
5
Fabrication d'objets ou de matériaux façonnés contenant des substances macromoléculaires
18
Fabrication de bandes ou de feuilles
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1
Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
04
faits de substances organiques, p.ex. plastiques
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27
Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
14
comprenant des composants semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement
144
Dispositifs commandés par rayonnement
146
Structures de capteurs d'images
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
金子 祐士 KANEKO Yushi; JP
田口 貴規 TAGUCHI Yoshinori; JP
瀧下 大貴 TAKISHITA Hirotaka; JP
Mandataire :
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
Données relatives à la priorité :
2017-12049320.06.2017JP
2018-03533028.02.2018JP
Titre (EN) COMPOSITION, FILM, LENS, SOLID STATE IMAGE SENSOR, AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION, FILM, LENTILLE, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, ET COMPOSÉ
(JA) 組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、化合物
Abrégé :
(EN) The present invention provides a composition which is capable of forming a film having a high refractive index and which has excellent conformability to level differences. Moreover, the present invention provides a film obtained using the composition, a lens comprising the film, and a solid state image sensor comprising the film or the lens. The present invention further provides a compound used for the composition. The composition comprises a compound represented by general formula (I) and a solvent, wherein the content of the compound represented by general formula (I) is 30 mass% or more of the total solids in the composition. (A)m-X-(B)n (I)
(FR) L'invention fournit une composition qui permet de former un film présentant un indice de réfraction élevé, et qui se révèle excellente en termes d'adaptation aux différences de niveau. L'invention fournit également un film obtenu à l'aide de ladite composition, une lentille contenant ledit film, et un élément d'imagerie à semi-conducteurs contenant ledit film ou ladite lentille. De plus, l'invention fournit un composé mis en œuvre dans ladite composition. La composition de l'invention contient un composé représenté par la formule générale (I) et un solvant, la teneur en composé représenté par la formule générale (I) est supérieure ou égale à 30% en masse de la teneur en matière solide totale contenue dans la composition. (A)-X-(B) (I)
(JA) 本発明は、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れる組成物を提供する。また、本発明は、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、及び、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子を提供する。更に、上記組成物に用いられる化合物を提供する。本発明の組成物は、下記一般式(I)で表される化合物及び溶剤を含む組成物であって、上記一般式(I)で表される化合物の含有量が、組成物中の全固形分に対して、30質量%以上である。 (A)-X-(B) (I)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)