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1. (WO2018227962) MASQUE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE TROU, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE SUBSTRAT D'AFFICHAGE, SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
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N° de publication : WO/2018/227962 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/072215
Date de publication : 20.12.2018 Date de dépôt international : 11.01.2018
CIB :
G03F 1/54 (2012.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
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Absorbeurs, p.ex. en matériau opaque
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
重庆京东方光电科技有限公司 CHONGQING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国重庆市 北碚区水土高新技术产业园云汉大道7号 No.7 Yunhan Rd., Shuitu Hi-tech Industrial Zone, Beibei District Chongqing 400714, CN
Inventeurs :
王小元 WANG, Xiaoyuan; CN
杨妮 YANG, Ni; CN
方琰 FANG, Yan; CN
齐智坚 QI, Zhijian; CN
李云泽 LI, Yunze; CN
许亨艺 XU, Hengyi; CN
Mandataire :
北京银龙知识产权代理有限公司 DRAGON INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; 中国北京市 海淀区西直门北大街32号院枫蓝国际中心2号楼10层 10F, Bldg. 2, Maples International Center No. 32 Xizhimen North Street, Haidian District Beijing 100082, CN
Données relatives à la priorité :
201710447407.214.06.2017CN
Titre (EN) MASK, METHOD FOR FORMING HOLE, METHOD FOR FORMING DISPLAY SUBSTRATE, DISPLAY SUBSTRATE, AND DISPLAY DEVICE
(FR) MASQUE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE TROU, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE SUBSTRAT D'AFFICHAGE, SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 掩膜版、过孔及显示基板的形成方法、显示基板及装置
Abrégé :
(EN) A mask (10) and a method for forming a hole (21). The mask (10) is used for forming the hole (21) on a film layer, and comprises: a light-transmitting pattern (11) used for forming the hole (21), the light-transmitting pattern (11) having one or more curved edges. In an exposure process of forming the hole (21), the light transmission amount at edges of the light-transmitting pattern (11) is small, and only a part of thickness of the film layer corresponding to the part can be exposed, such that the slope angle of the inner wall of the formed hole (21) is small.
(FR) L'invention concerne un masque (10) et un procédé de formation d'un trou (21). Le masque (10) est utilisé pour former le trou (21) sur une couche de film, et comprend : un motif de transmission de lumière (11) utilisé pour former le trou (21), le motif de transmission de lumière (11) ayant un ou plusieurs bords incurvés. Dans un processus d'exposition consistant à former le trou (21), la quantité de transmission de lumière au niveau des bords du motif de transmission de lumière (11) est petite, et seule une partie d'épaisseur de la couche de film correspondant à la partie peut être exposée, de telle sorte que l'angle de pente de la paroi interne du trou formé (21) soit petit.
(ZH) 一种掩膜版(10)及过孔(21)的形成方法。该掩膜版(10)用于在膜层上形成过孔(21),包括:用于形成过孔(21)的透光图案(11),透光图案(11)具有一个或多个弯曲的一个或多个边缘。在形成过孔(21)的曝光工艺中,透光图案(11)边缘处的光的透过量较小,该部分对应的膜层只能曝光掉一部分厚度,使得形成的过孔(21)内壁的坡度角较小。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)