Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018226503) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DISTRIBUTION DE GAZ DANS DES CHAMBRES DE TRAITEMENT À SEMI-CONDUCTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/226503 N° de la demande internationale : PCT/US2018/035355
Date de publication : 13.12.2018 Date de dépôt international : 31.05.2018
CIB :
H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
KIRCHOFF, Vincent; US
GUNGOR, Faruk; US
RABINOVICH, Felix; US
KEPPERS, Gary; US
Mandataire :
HALE, Jeffrey D.; US
TABOADA, Alan; US
MOSER, JR., Raymond R.; US
LINARDAKIS, Leonard P.; US
Données relatives à la priorité :
15/613,85505.06.2017US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR GAS DELIVERY IN SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBERS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DISTRIBUTION DE GAZ DANS DES CHAMBRES DE TRAITEMENT À SEMI-CONDUCTEUR
Abrégé :
(EN) Embodiments of an apparatus for gas delivery in a semiconductor processing system use a gas distribution plate that has a plurality of gas passageways where the passageways have surfaces with an average roughness of less than or equal to approximately 10 Ra. In some embodiments, the gas distribution plate has one or more internal fluid passageways that are capable of being fluidly coupled to one or more fluid sources to provide temperature control of the gas distribution plate. In some embodiments, the gas distribution plate has at least one internal cavity with at least one heatsink that may surround at least one of the plurality of gas passageways to provide, at least partial, temperature control of the gas distribution plate.
(FR) Certains modes de réalisation de l'invention concernent un appareil de distribution de gaz dans un système de traitement à semi-conducteur faisant appel à une plaque de distribution de gaz pourvue d'une pluralité de circuits de gaz, lesdits circuits présentant des surfaces dont la rugosité moyenne est inférieure ou égale à environ 10 Ra. Selon certains modes de réalisation, la plaque de distribution de gaz est pourvue d'un ou de plusieurs circuits fluidiques internes qui peuvent être en communication fluidique avec une ou plusieurs sources de fluide afin d'assurer une régulation de température de la plaque de distribution de gaz. Dans certains modes de réalisation, la plaque de distribution de gaz est pourvue d'au moins une cavité interne dotée d'au moins un dissipateur thermique qui peut entourer au moins un circuit de la pluralité de circuits de gaz afin d'assurer, au moins partiellement, une régulation de température de la plaque de distribution de gaz.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)