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1. (WO2018226276) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
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N° de publication : WO/2018/226276 N° de la demande internationale : PCT/US2018/020107
Date de publication : 13.12.2018 Date de dépôt international : 28.02.2018
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Déposants :
MATTSON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 47131 Bayside Parkway Fremont, California 94538, US
Inventeurs :
MA, Shawming; US
NAGORNY, Vladimir; US
DESAI, Dixit V.; US
PAKULSKI, Ryan M.; US
Mandataire :
WORKMAN, J., Parks; US
Données relatives à la priorité :
15/888,28305.02.2018US
62/517,36509.06.2017US
62/610,60127.12.2017US
Titre (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé :
(EN) Plasma processing apparatus are provided. In one example implementation, a plasma processing apparatus includes a processing chamber. The apparatus includes a pedestal operable to support a workpiece in the processing chamber. The apparatus includes a plasma chamber. The plasma chamber defines an active plasma generation region along a vertical surface of a dielectric sidewall of the plasma chamber. The apparatus includes a separation grid positioned between the processing chamber and the plasma chamber along a vertical direction. The apparatus includes a plurality of induction coils extending about the plasma chamber. Each of the plurality of induction coils can be disposed at a different position along the vertical direction. Each of the plurality of induction coils can be operable to generate a plasma in the active plasma generation region along the vertical surface of the dielectric sidewall of the plasma chamber.
(FR) L'invention concerne un appareil de traitement au plasma. Dans un mode de réalisation donné à titre d'exemple, un appareil de traitement au plasma comprend une chambre de traitement. L'appareil comprend un socle servant à supporter une pièce dans la chambre de traitement. L'appareil comprend une chambre à plasma. La chambre à plasma délimite une région de génération de plasma actif le long d'une surface verticale d'une paroi latérale diélectrique de la chambre à plasma. L'appareil comprend une grille de séparation positionnée entre la chambre de traitement et la chambre à plasma le long d'une direction verticale. L'appareil comprend une pluralité de bobines d'induction s'étendant autour de la chambre à plasma. Chacune de la pluralité de bobines d'induction peut être disposée à une position différente le long de la direction verticale. Chacune de la pluralité de bobines d'induction peut servir à générer un plasma dans la région de génération de plasma actif le long de la surface verticale de la paroi latérale diélectrique de la chambre à plasma.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)