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1. (WO2018225549) MONOMÈRE CONTENANT DU FLUOR, POLYMÈRE CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION DE FORMATION DE MOTIF METTANT EN ŒUVRE LEDIT POLYMÈRE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ASSOCIÉ
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N° de publication : WO/2018/225549 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/020270
Date de publication : 13.12.2018 Date de dépôt international : 28.05.2018
CIB :
C08F 20/22 (2006.01) ,C07D 307/20 (2006.01) ,C07D 307/24 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
20
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
22
Esters contenant des halogènes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
307
Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle
02
non condensés avec d'autres cycles
04
ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
18
avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p.ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
20
Atomes d'oxygène
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
307
Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle
02
non condensés avec d'autres cycles
04
ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
18
avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p.ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
24
Atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
セントラル硝子株式会社 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001, JP
Inventeurs :
兼子 譲 KANEKO, Yuzuru; JP
板倉 翼 ITAKURA, Tsubasa; JP
灘野 亮 NADANO, Ryo; JP
Mandataire :
小林 博通 KOBAYASHI, Hiromichi; JP
富岡 潔 TOMIOKA, Kiyoshi; JP
山口 幸二 YAMAGUCHI, Koji; JP
Données relatives à la priorité :
2017-11120805.06.2017JP
2018-09930624.05.2018JP
Titre (EN) FLUORINE-CONTAINING MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, PATTERN FORMING COMPOSITION USING SAME, AND PATTERN FORMING METHOD OF SAME
(FR) MONOMÈRE CONTENANT DU FLUOR, POLYMÈRE CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION DE FORMATION DE MOTIF METTANT EN ŒUVRE LEDIT POLYMÈRE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ASSOCIÉ
(JA) 含フッ素単量体、含フッ素重合体およびそれを用いたパターン形成用組成物、並びにそのパターン形成方法
Abrégé :
(EN) Provided is a fluorine-containing polymer which does not contain a perfluoroalkyl group having 4 or more carbon atoms, and which serves as a pattern forming material that enables the achievement of a pattern having high sensitivity and high resolution, said pattern forming material exhibiting water repellency after being formed into a film together with a photoacid generator, while exhibiting hydrophilicity by means of light irradiation and an acid. A fluorine-containing polymer according to the present invention is characterized by containing a repeating unit represented by formula (1). (In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom or an alkyl group having 1-10 carbon atoms; each of R2-R5 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-10 carbon atoms; X represents a single bond or a divalent group; Y represents a fluorine-containing alkyl group having 1-3 carbon atoms or a carboxylic acid ester group (-COOR); R represents a fluorine-containing alkyl group having 1-3 carbon atoms; and 7 or less hydrogen atoms contained in these groups may be substituted by fluorine atoms.)
(FR) L'invention concerne un polymère contenant du fluor qui ne contient pas de groupe perfluoroalkyle ayant 4 atomes de carbone ou plus, et qui sert de matériau de formation de motif permettant l'obtention d'un motif ayant une sensibilité élevée et une résolution élevée, ledit matériau de formation de motif présentant un caractère hydrofuge après avoir été formé en un film conjointement avec un générateur de photoacide, tout en présentant une certaine hydrophilicité au moyen d'une irradiation de lumière et d'un acide. Un polymère contenant du fluor selon la présente invention se caractérise en ce qu'elle contient un motif de répétition représenté par la formule (1). (Dans la formule, R1 représente un atome d'hydrogène, un atome de fluor ou un groupe alkyle ayant 1 à 10 atomes de carbone ; chacun de R2 à R5 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant de 1 à 10 atomes de carbone ; X représente une liaison simple ou un groupe divalent ; Y représente un groupe alkyle contenant du fluor ayant 1 à 3 atomes de carbone ou un groupe ester d'acide carboxylique (-COOR) ; R représente un groupe alkyle contenant du fluor ayant de 1 à 3 atomes de carbone ; et 7 atomes d'hydrogène ou moins contenus dans ces groupes peuvent être substitués par des atomes de fluor. )
(JA) 光酸発生剤とともに膜とした際に、製膜後は撥水性を示し、光照射により酸により親水性となるパターン形成材料であって、高感度且つ高解像度のパターンを与える炭素数4以上のパーフルオロアルキル基を含まない含フッ素重合体を提供する。本発明の含フッ素重合体は、式(1)で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする。 (式中、R1は水素原子、フッ素原子または炭素数1~10のアルキル基であり、R2~R5は水素原子、炭素数1~10のアルキル基であり、Xは、単結合または2価の基であり、Yは、炭素数1~3の含フッ素アルキル基、またはカルボン酸エステル基(-COOR)であり、Rは、炭素数1~3の含フッ素アルキル基である。これらの基が含む7個以下の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい。)
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)