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1. (WO2018225441) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM SEC, ET CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ
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N° de publication : WO/2018/225441 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/017810
Date de publication : 13.12.2018 Date de dépôt international : 08.05.2018
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/075 (2006.01) ,H05K 1/03 (2006.01) ,H05K 3/28 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
075
Composés contenant du silicium
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
1
Circuits imprimés
02
Détails
03
Emploi de matériaux pour réaliser le substrat
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
22
Traitement secondaire des circuits imprimés
28
Application de revêtements de protection non métalliques
Déposants :
互応化学工業株式会社 GOO CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 京都府宇治市伊勢田町井尻58番地 58, Ijiri, Iseda-cho, Uji-shi, Kyoto 6110043, JP
日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 NIPPON STEEL CHEMICAL & MATERIAL CO. LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区外神田四丁目14番1号 14-1, Sotokanda 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010021, JP
Inventeurs :
樋口 倫也 HIGUCHI, Michiya; --
藤原 勇佐 FUJIWARA, Yusuke; --
橋本 壯一 HASHIMOTO, Soichi; --
荒井 貴 ARAI, Takashi; --
川里 浩信 KAWASATO, Hironobu; --
稲葉 真司 INABA, Shinji; --
Mandataire :
特許業務法人北斗特許事務所 HOKUTO PATENT ATTORNEYS OFFICE; 大阪府大阪市北区梅田一丁目12-17梅田スクエアビル Umeda Square Bldg., 12-17, Umeda 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300001, JP
Données relatives à la priorité :
2017-11469509.06.2017JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, DRY FILM, AND PRINTED WIRING BOARD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM SEC, ET CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ
(JA) 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びプリント配線板
Abrégé :
(EN) The present invention addresses the problem of providing a photosensitive resin composition which has high resolution and which is capable of forming a cured product having high copper-plating adhesiveness. This photosensitive resin composition is photocurable. The photosensitive resin composition contains: a carboxyl group-containing resin (A) that has an aromatic ring; an organic filler (B) that has an average primary particle size of 1 µm or less and has a carboxyl group; a coupling agent (C) that has at least one type of atom selected from the group consisting of a silicon atom, an aluminum atom, a titanium atom, and a zirconium atom, and that has two or more functional groups including at least one selected from the group consisting of alkoxy groups, acyloxy groups, and alkoxides; and a silica filler (D) that has an average primary particle size within the range of 1-150 nm.
(FR) La présente invention aborde le problème de la fourniture d'une composition de résine photosensible qui a une haute résolution et qui est apte à former un produit durci ayant une forte adhésivité de placage de cuivre. Cette composition de résine photosensible est photodurcissable. La composition de résine photosensible contient : une résine contenant un groupe carboxyle (A) qui a un cycle aromatique; une charge organique (B) qui a une taille de particule primaire moyenne de 1 µm ou moins et a un groupe carboxyle; un agent de couplage (C) qui a au moins un type d'atome choisi dans le groupe constitué par un atome de silicium, un atome d'aluminium, un atome de titane et un atome de zirconium, et qui a deux groupes fonctionnels ou plus comprenant au moins un groupe choisi dans le groupe constitué par des groupes alcoxy, des groupes acyloxy et des alcoxydes; et une charge de silice (D) qui a une taille de particule primaire moyenne dans la plage de 1 à 150 nm.
(JA) 本発明の課題は、高い銅めっき密着性を有する硬化物を形成しうるとともに、解像性に優れた感光性樹脂組成物を提供することである。本発明に係る感光性樹脂組成物は、光硬化性を有する。感光性樹脂組成物は、芳香環を有するカルボキシル基含有樹脂(A)と、平均一次粒子径が1μm以下であり、カルボキシル基を有する有機フィラー(B)と、ケイ素原子、アルミニウム原子、チタン原子、及びジルコニウム原子からなる群から選ばれる少なくとも一種の原子と、二つ以上の官能基とを有し、前記官能基は、アルコキシ基、アシルオキシ基及びアルコキシドからなる群から選ばれる少なくとも一種の基を含むカップリング剤(C)と、平均一次粒子径が1~150nmの範囲内であるシリカフィラー(D)と、を含有する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)