Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018225239) STRUCTURE DE MONTAGE D'ÉLECTRODE SACRIFICIELLE ET APPAREIL D'ÉLECTROLYSE ÉQUIPÉ DE CELLE-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/225239 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/021447
Date de publication : 13.12.2018 Date de dépôt international : 09.06.2017
CIB :
C25B 15/08 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
B
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES POUR LA PRODUCTION DE COMPOSÉS ORGANIQUES OU MINÉRAUX, OU DE NON-MÉTAUX; APPAREILLAGES À CET EFFET
15
Conduite ou entretien des cellules
08
Alimentation ou vidange des réactifs ou des électrolytes; Régénération des électrolytes
Déposants :
デノラ・ペルメレック株式会社 DE NORA PERMELEC LTD [JP/JP]; 神奈川県藤沢市遠藤2023番15 2023-15, Endo, Fujisawa-shi, Kanagawa 2520816, JP
Inventeurs :
大津 秀緒 OTSU Hideo; JP
吉村 貢史 YOSHIMURA Koji; JP
Mandataire :
園田・小林特許業務法人 SONODA & KOBAYASHI INTELLECTUAL PROPERTY LAW; 東京都新宿区西新宿二丁目1番1号 新宿三井ビル34階 34th Floor, Shinjuku Mitsui Building, 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630434, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SACRIFICIAL ELECTRODE-MOUNTING STRUCTURE AND ELECTROLYSIS APPARATUS PROVIDED THEREWITH
(FR) STRUCTURE DE MONTAGE D'ÉLECTRODE SACRIFICIELLE ET APPAREIL D'ÉLECTROLYSE ÉQUIPÉ DE CELLE-CI
(JA) 犠牲電極の取付構造、およびこれを備えた電解装置
Abrégé :
(EN) A sacrificial electrode-mounting structure is provided with: a first pipe through which an electrolytic solution flows; a second pipe, which is formed from an insulating material and through which the electrolytic solution flows; a tubular sacrificial electrode unit, which is disposed between the first pipe and the second pipe so that the electrolytic solution flows therethrough and is provided with a sacrificial electrode that is in contact with the electrolytic solution; a first pipe coupling for connecting the first pipe to the sacrificial electrode unit in a liquid-tight, freely detachable manner; and a second pipe coupling for connecting the second pipe to the sacrificial electrode unit in a liquid-tight, freely detachable manner.
(FR) L'invention concerne une structure de montage d'électrode sacrificielle comprenant : un premier tuyau à travers lequel s'écoule une solution électrolytique; un second tuyau, qui est formé à partir d'un matériau isolant et à travers lequel s'écoule la solution électrolytique; une unité d'électrode sacrificielle tubulaire, qui est disposée entre le premier tuyau et le second tuyau de telle sorte que la solution électrolytique s'écoule à travers celle-ci, et qui est pourvue d'une électrode sacrificielle qui est en contact avec la solution électrolytique; un premier raccord de tuyau pour raccorder le premier tuyau à l'unité d'électrode sacrificielle de manière étanche aux liquides et librement amovible; et un second raccord de tuyau pour raccorder le second tuyau à l'unité d'électrode sacrificielle de manière étanche aux liquides et librement amovible.
(JA) 犠牲電極の取付構造は、電解液が流通する第1の配管と、絶縁材料から形成され、電解液が流通する第2の配管と、電解液が流通するように、第1の配管と第2の配管との間に配置され、電解液に接触する犠牲電極が設けられた筒状の犠牲電極ユニットと、第1の配管と犠牲電極ユニットを液密かつ着脱自在に連結する第1の管継手と、第2の配管と犠牲電極ユニットを液密かつ着脱自在に連結する第2の管継手を備える。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)