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1. (WO2018225117) DISPOSITIF LASER ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME
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N° de publication : WO/2018/225117 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/020768
Date de publication : 13.12.2018 Date de dépôt international : 05.06.2017
CIB :
H01S 3/101 (2006.01) ,H01S 3/10 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
10
Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
101
Lasers munis de moyens pour changer l'origine ou la direction du rayonnement émis
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
10
Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
Déposants :
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
Inventeurs :
若菜 克彦 WAKANA, Katsuhiko; JP
Mandataire :
保坂 延寿 HOSAKA, Nobuhisa; 東京都千代田区神田佐久間町3-22 神田SKビル4階 新井・橋本・保坂国際特許事務所 ARAI, HASHIMOTO, HOSAKA & ASSOCIATES, KANDA SK BLDG. 4F, 3-22, KANDA SAKUMA-CHO, CHIYODA-KU, TOKYO 1010025, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LASER DEVICE, AND EUV LIGHT GENERATION SYSTEM
(FR) DISPOSITIF LASER ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME
(JA) レーザ装置、及びEUV光生成システム
Abrégé :
(EN) The laser device according to the present disclosure is provided with: an optical element disposed on a laser optical axis; an actuator for displacing the optical element and displacing the laser optical axis; a drive amount monitor for monitoring the drive amount of the actuator; an optical axis monitor disposed along the laser optical axis, the optical axis monitor monitoring the laser optical axis; and a control unit for controlling the actuator on the basis of the result of the monitoring by the optical axis monitor, and determining an abnormality of the optical element on the basis of the result of the monitoring by the drive amount monitor.
(FR) Le dispositif laser selon la présente invention comprend : un élément optique disposé sur un axe optique laser ; un actionneur pour déplacer l'élément optique et déplacer l'axe optique laser ; un dispositif de surveillance de quantité d'entraînement pour surveiller la quantité d'entraînement de l'actionneur ; un dispositif de surveillance d'axe optique disposé le long de l'axe optique laser, le dispositif de surveillance d'axe optique surveillant l'axe optique laser ; et une unité de commande pour commander l'actionneur sur la base du résultat de la surveillance par le dispositif de surveillance d'axe optique, et pour déterminer une anomalie de l'élément optique sur la base du résultat de la surveillance par le dispositif de surveillance de quantité d'entraînement.
(JA) 本開示によるレーザ装置は、レーザ光軸上に配置された光学素子と、光学素子を変位させてレーザ光軸を変位させるアクチュエータと、アクチュエータの駆動量をモニタする駆動量モニタと、レーザ光軸に沿って配置され、レーザ光軸をモニタする光軸モニタと、光軸モニタのモニタリング結果に基づいてアクチュエータを制御すると共に、駆動量モニタのモニタリング結果に基づいて光学素子の異常を判定する制御部とを備える。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)