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1. (WO2018224245) DISPOSITIF POUR L’ORIENTATION D’UN ÉLÉMENT OPTIQUE
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N° de publication : WO/2018/224245 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/062325
Date de publication : 13.12.2018 Date de dépôt international : 14.05.2018
CIB :
G02B 7/182 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
7
Montures, moyens de réglage ou raccords étanches à la lumière pour éléments optiques
18
pour prismes; pour miroirs
182
pour miroirs
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
WUESTNER, Sebastian; DE
NEFZI, Marwene; DE
PNINI-MITTLER, Boaz; DE
HEMBACHER, Stefan; DE
Mandataire :
LORENZ, Markus; DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 209 794.909.06.2017DE
Titre (EN) DEVICE FOR ADJUSTING AN OPTICAL ELEMENT
(FR) DISPOSITIF POUR L’ORIENTATION D’UN ÉLÉMENT OPTIQUE
(DE) VORRICHTUNG ZUR AUSRICHTUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS
Abrégé :
(EN) The invention relates to a device (1) for adjusting an optical element (2), comprising an actuation device (3) having a plurality of actuation units (4) for adjusting the optical element (2), wherein the actuation units (4) are connected to the optical element (2) via securing points (5) and they exert a force on the optical element (2) in order to adjust the optical element (2). A measuring device (6) is provided for determining parasitic forces (FP) and/or parasitic torques (MP) acting on the optical element (2). A compensation device (7) is also provided, comprising at least one compensation unit (8), wherein the at least one compensation unit (8) applies a compensation force (FK) and/or a compensation torque (MK) to the optical element (2), based on data from the measuring device (6), in order to correct the parasitic forces (FP) and/or the parasitic torques (MP).
(FR) L’invention concerne un dispositif (1) pour l‘orientation d’un élément optique (2), comprenant un dispositif d’actionnement (3) qui comprend une pluralité d’unités d’actionnement (4) pour l’orientation de l’élément optique (2), l’unité d’actionnement (4) étant connectée à l’élément optique (2) par l'intermédiaire des points de fixation (5) et appliquant une force sur l’élément optique (2) pour orienter l’élément optique (2). Un dispositif de mesure (6) est prévu pour la détermination des forces parasites (FP) et/ou couples parasites (MP) agissant sur l'élément optique (2). Un dispositif de compensation (7) comprenant au moins une unité de compensation (8) est aussi prévu, l’au moins une unité de compensation (8) appliquant une force de compensation (FK) et/ou un couple de compensation (MK) sur l’élément optique (2) sur la base de données du dispositif de mesure (6), pour corriger les forces parasites (FP) et/ou les couples parasites (MP).
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Ausrichtung eines optischen Elements (2), mit einer Betätigungseinrichtung (3) welche eine Mehrzahl von Betätigungseinheiten (4) zur Ausrichtung des optischen Elements (2) aufweist, wobei die Betätigungseinheit (4) über Befestigungspunkte (5) mit dem optischen Element (2) verbunden sind und eine Kraft auf das optische Element (2) aufbringen um das optische Element (2) auszurichten. Vorgesehen ist eine Messeinrichtung (6) zur Bestimmung von auf das optische Element (2) wirkenden parasitären Kräften (FP) und/oder parasitären Momenten (MP). Ferner ist eine Kompensationseinrichtung (7) mit wenigstens einer Kompensationseinheit (8) vorgesehen, wobei die wenigstens eine Kompensationseinheit (8) auf Basis von Daten der Messeinrichtung (6) eine Kompensationskraft (FK) und/oder ein Kompensationsmoment (MK) auf das optische Element (2) aufbringt, um die parasitären Kräfte (FP) und/oder die parasitären Momente (MP) zu korrigieren.
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Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)