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1. (WO2018223494) SUBSTRAT DE RÉSEAU ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET PANNEAU D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
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N° de publication : WO/2018/223494 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/093251
Date de publication : 13.12.2018 Date de dépôt international : 18.07.2017
CIB :
H01L 27/12 (2006.01) ,H01L 21/77 (2017.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27
Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
02
comprenant des composants semi-conducteurs spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la génération d'oscillations ou la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
12
le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
70
Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci; Fabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
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Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun
Déposants :
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号 No.9-2, Tangming Road, Gongming Street, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132, CN
Inventeurs :
甘启明 GAN, Qiming; CN
Mandataire :
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) CHINA WISPRO INTELLECTUAL PROPERTY LLP.; 中国广东省深圳市 南山区高新区粤兴三道8号中国地质大学产学研基地中地大楼A806 Room A806 Zhongdi Building, China University of Geosciences Base, No.8 Yuexing 3rd Road, High-Tech Industrial Estate Nanshan District, Shenzhen, Guangdong 518057, CN
Données relatives à la priorité :
201710413393.205.06.2017CN
Titre (EN) ARRAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
(FR) SUBSTRAT DE RÉSEAU ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET PANNEAU D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(ZH) 一种阵列基板及其制作方法、液晶显示面板
Abrégé :
(EN) An array substrate (40) and a manufacturing method, and a liquid crystal display panel. The manufacturing method for the array substrate (40) comprises: manufacturing a first metal layer (11) on a substrate (10); performing an etching process on the first metal layer (11) by using a first photomask (32), so as to form a gate electrode (111) and a common electrode (112); successively manufacturing a gate insulation layer (12), an active layer and a second metal layer (15) on the first metal layer (11); and performing an etching process on the second metal layer (15) and the active layer by using a second photomask (34), so as to form a source electrode (151), a drain electrode (152) and a pixel electrode (153). Only two photomasks are needed during the process of manufacturing the array substrate (40), such that the production efficiency is improved, and the production cost of products is reduced.
(FR) La présente invention porte sur un substrat de réseau (40) et sur son procédé de fabrication, ainsi que sur un panneau d’affichage à cristaux liquides. Le procédé de fabrication du substrat de réseau (40) consiste à : fabriquer une première couche métallique (11) sur un substrat (10); réaliser un processus de gravure sur la première couche métallique (11) en utilisant un premier photomasque (32), de manière à former une électrode de grille (111) et une électrode commune (112); fabriquer successivement une couche d'isolation de grille (12), une couche active et une seconde couche métallique (15) sur la première couche métallique (11); et réaliser un processus de gravure sur la seconde couche métallique (15) et la couche active à l'aide d'un second photomasque (34), de manière à former une électrode de source (151), une électrode de drain (152) et une électrode de pixel (153). Seuls deux photomasques sont nécessaires pendant le processus de fabrication du substrat de réseau (40), de telle sorte que l'efficacité de production est améliorée, et le coût de production de produits est réduit.
(ZH) 一种阵列基板(40)及制作方法、液晶显示面板,阵列基板(40)的制作方法包括:在基板(10)上制作第一金属层(11);采用第一张光罩(32)对第一金属层(11)进行刻蚀工艺以形成栅极(111)和公共电极(112);在第一金属层(11)上依次制作栅极绝缘层(12)、有源层和第二金属层(15);采用第二张光罩(34)对第二金属层(15)和有源层进行刻蚀工艺以形成源极(151)、漏极(152)和像素电极(153)。在阵列基板(40)的制作制程中只需要两道光罩,提高了生产效率,降低了产品生产的成本。
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)