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1. (WO2018222614) AMÉLIORATION DE LA QUALITÉ DE FILMS DÉPOSÉS SUR UN SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/222614    International Application No.:    PCT/US2018/034940
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed May 30 01:59:59 CEST 2018
IPC: H01L 21/02
H01L 21/324
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
Inventors: MANNA, Pramit
MALLICK, Abhijit Basu
LESCHKIES, Kurtis
VERHAVERBEKE, Steven
KAMATH, Sanjay
WANG, Zongbin
ZHANG, Hanwen
JIANG, Shishi
Title: AMÉLIORATION DE LA QUALITÉ DE FILMS DÉPOSÉS SUR UN SUBSTRAT
Abstract:
Des modes de réalisation de l'invention concernent généralement un procédé de traitement d'un substrat semi-conducteur à une température inférieure à 250 degrés Celsius. Dans un mode de réalisation, le procédé consiste à : charger le substrat avec le film déposé dans un récipient sous pression, exposer le substrat à un gaz de traitement comprenant un oxydant à une pression supérieure à environ 2 bars, et maintenir le récipient sous pression à une température entre un point de condensation du gaz de traitement et environ 250 degrés Celsius.