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1. (WO2018222310) POLYPROPYLÈNE À HAUTE RÉSISTANCE À L'ÉTAT FONDU PRÉSENTANT UNE RIGIDITÉ ET UNE TRANSPARENCE ÉLEVÉES

Pub. No.:    WO/2018/222310    International Application No.:    PCT/US2018/029763
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Apr 28 01:59:59 CEST 2018
IPC: C08F 10/06
C08F 210/06
C08F 2/38
C08J 9/04
Applicants: EXXONMOBIL CHEMICAL PATENTS INC.
Inventors: SPOFFORD, Caitlin, A.
PEHLERT, George, J.
POLOSO, Anthony
BARRY, Adrian, G.
DONAHUE, John, M.
Title: POLYPROPYLÈNE À HAUTE RÉSISTANCE À L'ÉTAT FONDU PRÉSENTANT UNE RIGIDITÉ ET UNE TRANSPARENCE ÉLEVÉES
Abstract:
L'invention concerne un polypropylène comprenant de 0,1 % en poids à 4 % en poids d'éthylène et/ou de motifs dérivés d'a-oléfine en C4 à C12, un ou plusieurs clarificateurs, ou les deux ; le polypropylène présentant un module de flexion au moins égal à 200 kpsi (0,05 po/min ASTM D790 (A)) et un rapport Mz/Mw au moins égal à 4. Les polypropylènes peuvent être obtenus par combinaison de propylène et d'un comonomère avec un catalyseur Ziegler-Natta et au moins deux donneurs d'électrons externes, la concentration des donneurs d'électrons se situant dans une plage de 1 à 100 ppm. La concentration des donneurs d'électrons peut être réduite pour réguler le niveau de trouble du polypropylène, et/ou le taux de motifs dérivés du comonomère peut être régulé pour réduire le niveau de trouble du polypropylène.