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1. (WO2018221852) MASQUE INTÉGRÉ À UNE STRUCTURE
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N° de publication : WO/2018/221852 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/004272
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 12.04.2018
CIB :
H01L 51/00 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
04
Revêtement de parties déterminées de la surface, p.ex. au moyen de masques
Déposants :
주식회사 티지오테크 TGO TECH. CORPORATION [KR/KR]; 경기도 용인시 기흥구 공세로 140-11 140-11, Gongse-ro, Giheung-gu Yongin-si Gyeonggi-do 17085, KR
Inventeurs :
장택용 JANG, Taek Yong; KR
Mandataire :
김한 KIM, Han; KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-006739631.05.2017KR
Titre (EN) FRAME-INTEGRATED MASK
(FR) MASQUE INTÉGRÉ À UNE STRUCTURE
(KO) 프레임 일체형 마스크
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a frame-integrated mask. The frame-integrated mask (10) according to the present invention is used in a process of forming pixels on a silicon wafer, and comprises: a mask (20) including a mask pattern (PP); and a frame (30) joined to at least a part of a mask region (20b) excluding the region (20a) in which the mask pattern (PP) is formed, wherein the mask (20) has a shape corresponding to the silicon wafer and is integrally connected to the frame (30).
(FR) La présente invention concerne un masque intégré à une structure. Le masque intégré à une structure (10) selon la présente invention est utilisé dans un procédé de formation de pixels sur une tranche de silicium, et comprend : un masque (20) comprenant un motif de masque (PP); et une structure (30) jointe à au moins une partie d'une région de masque (20b) excluant la région (20a) dans laquelle est formé le motif de masque (PP), le masque (20) ayant une forme correspondant à la tranche de silicium et étant relié d'un seul tenant à la structure (30).
(KO) 본 발명은 프레임 일체형 마스크에 관한 것이다. 본 발명에 따른 프레임 일체형 마스크(10)는, 실리콘 웨이퍼 상의 화소 형성 공정에 사용되는 프레임 일체형 마스크(10)로서, 마스크 패턴(PP)을 포함하는 마스크(20), 및 마스크 패턴(PP)이 형성된 영역(20a)을 제외한 마스크의 영역(20b)의 적어도 일부에 접합되는 프레임(30)을 포함하고, 마스크(20)는 실리콘 웨이퍼에 대응하는 형상을 가지며, 프레임(30)과 일체로 연결되는 것을 특징으로 한다.
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)