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1. (WO2018221620) COMPOSITION DE DENTIFRICE
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N° de publication : WO/2018/221620 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/020840
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 30.05.2018
CIB :
A61K 8/42 (2006.01) ,A61K 8/73 (2006.01) ,A61K 8/81 (2006.01) ,A61Q 11/00 (2006.01)
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
K
PRÉPARATIONS À USAGE MÉDICAL, DENTAIRE OU POUR LA TOILETTE
8
Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette
18
caractérisés par la composition
30
contenant des composés organiques
40
contenant de l'azote
42
Amides
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
K
PRÉPARATIONS À USAGE MÉDICAL, DENTAIRE OU POUR LA TOILETTE
8
Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette
18
caractérisés par la composition
72
contenant des composés organiques macromoléculaires
73
Polysaccharides
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
K
PRÉPARATIONS À USAGE MÉDICAL, DENTAIRE OU POUR LA TOILETTE
8
Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette
18
caractérisés par la composition
72
contenant des composés organiques macromoléculaires
81
obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons insaturées carbone-carbone
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
Q
UTILISATION SPÉCIFIQUE DE COSMÉTIQUES OU DE PRÉPARATIONS SIMILAIRES POUR LA TOILETTE
11
Préparations pour le nettoyage des dents, de la bouche ou des prothèses dentaires, p.ex. dentifrices; Bains de bouche
Déposants :
ライオン株式会社 LION CORPORATION [JP/JP]; 東京都墨田区本所一丁目3番7号 3-7, Honjo 1-chome, Sumida-ku, Tokyo 1308644, JP
Inventeurs :
清水 裕之 SHIMIZU Hiroyuki; JP
猪谷 祐貴 INOTANI Yuki; JP
栗原 奈保 KURIHARA Naho; JP
川口 徹也 KAWAGUCHI Tetsuya; JP
Mandataire :
特許業務法人英明国際特許事務所 PATENT PROFESSIONAL CORPORATION EI-MEI PATENT OFFICE; 東京都中央区銀座二丁目16番12号 銀座大塚ビル2階 GINZA OHTSUKA Bldg. 2F, 16-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061, JP
Données relatives à la priorité :
2017-10773831.05.2017JP
Titre (EN) DENTIFRICE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE DENTIFRICE
(JA) 歯磨剤組成物
Abrégé :
(EN) This dentifrice composition includes: (A) 0.00001-0.01 mass% of N-(4-cyanomethylphenyl)-2-isopropyl-5-methylcyclohexane carboxamide; (B) 1.4-2.5 mass% of xanthan gum; and (C) at least one substance selected from sodium polyacrylate and sodium alginate. The mass ratio of (B)/(C) is 6-20. The dentifrice composition also includes (D) thickening silica and (E) a surfactant. According to the present invention, a dentifrice composition can be provided which imparts a sustained excellent intraoral cleanliness sensation, and which exhibits excellent usability.
(FR) L’invention concerne une composition de dentifrice qui comprend (A) 0,00001 à 0,01% en masse d’un N-(4-cynométhylphényle)-2-isopropyle-5-méthylcyclohexanecarboxamide, (B) 1,4 à 2,5% en masse d’une gomme de xanthane, et (C) au moins un élément choisi parmi un polyacrylate de sodium et un alginate de sodium, (B)/(C) étant compris entre 6 et 20 en rapport massique. En outre, ladite composition de dentifrice comprend (D) une silice épaississante, ou (E) un tensio-actif. Ainsi, il est possible de fournir une composition de dentifrice qui confère une sensation de propreté continue et élevée à l’intérieur de la bouche, et qui présente une facilité de mise en œuvre satisfaisante.
(JA) (A)N-(4-シアノメチルフェニル)-2-イソプロピル-5-メチルシクロヘキサンカルボキサミドを0.00001~0.01質量%、(B)キサンタンガムを1.4~2.5質量%、及び(C)ポリアクリル酸ナトリウム及びアルギン酸ナトリウムから選ばれる1種以上を含有し、(B)/(C)が質量比として6~20である歯磨剤組成物。更に、(D)増粘性シリカ、又は(E)界面活性剤を含有する上記歯磨剤組成物。 本発明によれば、持続的かつ高い口腔内清浄感を与え、また、使用性も良い歯磨剤組成物を提供できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)